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1. (WO2019025109) REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR ANPASSUNG EINER GEOMETRIE EINER KOMPONENTE
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Veröff.-Nr.: WO/2019/025109 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/067934
Veröffentlichungsdatum: 07.02.2019 Internationales Anmeldedatum: 03.07.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/24 (2012.01) ,G21K 1/06 (2006.01) ,G02B 5/08 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
1
Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Masken, Fotomasken oder Zielmarken; zugehörige Maskenrohlinge oder Pellicles; besonders hierfür ausgebildete Behälter; Herstellung derselben
22
Masken oder Maskenrohlinge zur Abbildung mittels Strahlung von 100 nm oder kürzerer Wellenlänge, z.B. Röntgen-Masken, EUV-Masken; Herstellung derselben
24
Reflexionsmasken; Herstellung derselben
G Physik
21
Kernphysik; Kerntechnik
K
Verfahren und Vorrichtungen zur Handhabung von Teilchen oder ionisierender Strahlung, soweit nicht anderweitig vorgesehen; Bestrahlungsvorrichtungen; Gamma- oder Röntgenstrahlmikroskope
1
Anordnungen zur Handhabung von ionisierender Strahlung oder von Teilchen, z.B. Fokussieren oder Moderieren
06
unter Anwendung von Beugung, Brechung oder Reflexion, z.B. Monochromatoren
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
5
Optische Elemente außer Linsen
08
Spiegel
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
DINGER, Udo; DE
Vertreter:
KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Gropiusplatz 10 70563 Stuttgart, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 213 406.202.08.2017DE
Titel (EN) REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT FOR EUV LITHOGRAPHY AND METHOD FOR ADAPTING A GEOMETRY OF A COMPONENT
(FR) ÉLÉMENT OPTIQUE RÉFLECTEUR POUR LA LITHOGRAPHIE À ULTRAVIOLETS EXTRÊMES ET PROCÉDÉ D’ADAPTATION D’UNE GÉOMÉTRIE D’UN COMPOSANT
(DE) REFLEKTIVES OPTISCHES ELEMENT FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR ANPASSUNG EINER GEOMETRIE EINER KOMPONENTE
Zusammenfassung:
(EN) The disclosure also relates to a reflective optical element (1) for reflecting light having at least one wavelength in an EUV wavelength range. The optical element (1) comprises an optically effective region configured for reflecting the light incident on a surface (2) of the optically effective region. The reflective optical element (1) has an edge (4) forming at least part of a boundary of an edgeless surface (3) of the reflective optical element (1), wherein the edgeless surface (3) comprises the surface (2) of the optically effective region. The edge (4) has a chamfer and/or a rounding. The disclosure also relates to a method for adapting a geometry of at least one surface region of a component of an optical arrangement, for example of a reflective optical element (1).
(FR) La présente invention concerne un élément optique réflecteur (1) destiné à la réflexion d’une lumière qui comprend au moins une longueur d’onde dans le domaine spectral de l’ultraviolet extrême. L’élément optique (1) comporte une zone optiquement active qui est configurée pour réfléchir la lumière qui est incidente sur une surface (2) de la zone optiquement active. L’élément optique réflecteur (1) comprend un bord (4) qui forme au moins une partie d’une délimitation d’une surface sans bord (3) de l’élément optique réflecteur (1), la surface sans bord (3) comprenant la surface (2) de la zone optiquement active. Le bord (4) comprend un profil chanfreiné et/ou arrondi. La présente invention concerne en outre un procédé d’adaptation d’une géométrie d’au moins une zone de surface d’un composant d’un agencement optique, par exemple d’un élément optique réflecteur (1).
(DE) Die Offenbarung bezieht sich auch auf ein reflektives optisches Element (1) zur Reflexion von Licht, welches zumindest eine Wellenlänge in einem EUV- Wellenlängenbereich aufweist. Das optische Element (1) umfasst einen optisch wirksamen Bereich, welcher zur Reflexion des Lichts konfiguriert ist, welches auf eine Oberfläche (2) des optisch wirksamen Bereiches einfällt. Das reflektive optische Element (1) weist eine Kante (4) auf, welche zumindest einen Teil einer Begrenzung einer kantenlosen Oberfläche (3) des reflektiven optischen Elements (1) bildet, wobei die kantenlose Oberfläche (4) die Oberfläche (2) des optisch wirksamen Bereichs aufweist. Die Kante (4) weist eine Fase und/oder eine Abrundung auf. Die Offenbarung bezieht sich auch auf ein Verfahren zum Anpassen einer Geometrie zumindest eines Oberflächenbereichs einer Komponente einer optischen Anordnung, beispielsweise eines reflektiven optischen Elements (1).
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African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)