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1. (WO2019025036) OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE
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Veröff.-Nr.: WO/2019/025036 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/057865
Veröffentlichungsdatum: 07.02.2019 Internationales Anmeldedatum: 28.03.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
GROSSMANN, Jan [DE/DE]; DE (US)
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
Erfinder:
GROSSMANN, Jan; DE
Vertreter:
FRANK, Hartmut; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 213 121.731.07.2017DE
Titel (EN) OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) SYSTÈME OPTIQUE POUR LA MICROLITHOGRAPHIE
(DE) OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to an optical system for microlithography, the optical system being designed for operation with electromagnetic radiation, which passes through the optical system along a useful beam path, having at least one component (105) which has a region situated outside the useful beam path, said region having a catalytically or chemically active layer (110), and the catalytically or chemically active layer (110) and/or a substrate (230, 240) supporting said layer (110) being porous.
(FR) L'invention concerne un système optique pour la microlithographie, le système optique étant conçu pour un fonctionnement par rayonnement électromagnétique, ledit système optique parcourt un trajet optique utile, comprenant au moins un élément (105) qui présente une zone se trouvant hors du trajet optique utile, cette zone présentant une couche catalytiquement ou chimiquement active (110), et la couche catalytiquement ou chimiquement active (1 10) et/ou un support (230, 240) portant cette couche (110) étant poreux.
(DE) Die Erfindung betrifft ein optisches System für die Mikrolithographie, wobei das optische System für einen Betrieb mit elektromagnetischer Strahlung ausgelegt ist, welche das optische System entlang eines Nutzstrahlengangs durchläuft, mit wenigstens einer Komponente (105), welche einen außerhalb des Nutzstrahlengangs befindlichen Bereich aufweist, wobei dieser Bereich eine katalytische oder chemisch aktive Schicht (110) aufweist, und wobei die katalytische oder chemisch aktive Schicht (110) und/oder ein diese Schicht (110) tragender Träger (230, 240) porös ist.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)