Einige Inhalte dieser Anwendung sind momentan nicht verfügbar.
Wenn diese Situation weiterhin besteht, kontaktieren Sie uns bitte unterFeedback&Kontakt
1. (WO2019020214) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER EINPHASIGEN SCHICHT AUS INTERMETALLISCHEN VERBINDUNGEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten    Einwendung einreichen

Veröff.-Nr.: WO/2019/020214 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/000371
Veröffentlichungsdatum: 31.01.2019 Internationales Anmeldedatum: 25.07.2018
IPC:
C23C 14/16 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01) ,C23C 14/35 (2006.01) ,H01J 37/34 (2006.01) ,B01J 23/00 (2006.01) ,C22C 1/04 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
06
gekennzeichnet durch das Beschichtungsmaterial
14
Metallische Stoffe, Bor oder Silicium
16
Aufbringen auf metallische Substrate oder auf Substrate aus Bor oder Silicium
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
34
durch Aufstäuben
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
34
durch Aufstäuben
35
durch Anwendung eines magnetischen Feldes, z.B. Magnetron-Zerstäubung
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32
Gasgefüllte Entladungsröhren
34
mit Kathodenzerstäubung arbeitend
B Arbeitsverfahren; Transportieren
01
Physikalische oder chemische Verfahren oder Vorrichtungen allgemein
J
Chemische oder physikalische Verfahren, z.B. Katalyse, Kolloidchemie; entsprechende Vorrichtungen hierfür
23
Katalysatoren, die nicht in Gruppe B01J21/62
C Chemie; Hüttenwesen
22
Metallhüttenwesen; Eisen- oder Nichteisenlegierungen; Behandlung von Legierungen oder von Nichteisenmetallen
C
Legierungen
1
Herstellen von Nichteisen-Legierungen
04
auf pulvermetallurgischem Wege
Anmelder:
KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE [DE/DE]; Kaiserstraße 12 76131 Karlsruhe, DE
Erfinder:
DITTMEYER, Roland; DE
SIEBERT, Martin; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 116 972.527.07.2017DE
Titel (EN) METHOD FOR PRODUCING A SINGLE-PHASE LAYER FORMED BY INTERMETALLIC COMPOUNDS
(FR) PROCÉDÉ POUR LA PRÉPARATION D'UNE COUCHE À PHASE UNIQUE EN COMPOSÉS INTERMÉTALLIQUES
(DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER EINPHASIGEN SCHICHT AUS INTERMETALLISCHEN VERBINDUNGEN
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a method for producing a single-phase layer (1) formed by intermetallic compounds on a substrate (2), comprising the following steps: providing a substrate; positioning the substrate in a process chamber of a DC magnetron sputtering system and evacuating the process chamber, wherein at least one, preferably exactly one cathode is arranged in the process chamber with an upper surface made of an intermetallic compound pointing towards the substrate; when using a noble gas as a sputtering gas, simultaneously transferring material components from the cathode into a plasma; simultaneously depositing the material components from the plasma to form an intermetallic layer with a single-phase structure on the substrate; as well as removing the substrate with the deposited intermetallic layer from the process chamber, wherein the intermetallic phase of the at least one, preferably exactly one cathode is formed as a single phase.
(FR) L'invention concerne un procédé pour la préparation d'une couche (1) à phase unique en composés intermétalliques sur un substrat (2), consistant à mettre à disposition un substrat, à positionner le substrat dans une chambre de procédé présentant une installation de pulvérisation à magnétron et à CC et à établir un vide dans la chambre de procédé, au moins une, de préférence exactement une, cathode présentant une surface en un composé intermétallique orientée vers le substrat étant disposée dans la chambre de procédé, à transférer simultanément, tout en utilisant un gaz noble comme gaz de pulvérisation, des constituants de matériau des cathodes dans un plasma, à déposer simultanément les constituants de matériau provenant du plasma en une couche intermétallique présentant une structure à phase unique sur le substrat ainsi qu'à prélever le substrat pourvu de la couche intermétallique déposée de la chambre de procédé, la phase intermétallique de ladite au moins une, de préférence exactement une, cathode se trouvant sous forme de phase unique.
(DE) Verfahren zur Herstellung einer einphasigen Schicht (1) aus intermetallischen Verbindungen auf einem Substrat (2), umfassend eine Bereitstellung eines Substrats, ein Positionieren des Substrats in einer Prozesskammer einer DC Magnetron-Sputteranlage und Evakuierung der Prozesskammer, wobei in der Prozesskammer mindestens eine, vorzugsweise genau eine Kathode mit einer zum Substrat weisenden Oberfläche aus einer intermetallischen Verbindung angeordnet ist, bei Verwendung eines Edelgases als Sputtergas, eine simultane Überführung von Materialbestandteilen aus den Kathoden in ein Plasma, ein simultanes Abscheiden der Materialbestandteile aus dem Plasma zu einer intermetallischen Schicht mit einphasigem Gefüge auf dem Substrat sowie eine Entnahme des Substrats mit der abgeschiedenen intermetallischen Schicht aus der Prozesskammer, wobei die intermetallische Phase der mindestens einen, vorzugsweise genau einen Kathode einphasig vorliegt.
front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)