Einige Inhalte dieser Anwendung sind momentan nicht verfügbar.
Wenn diese Situation weiterhin besteht, kontaktieren Sie uns bitte unterFeedback&Kontakt
1. (WO2019016235) OPTISCHES SYSTEM, LITHOGRAPHIEANLAGE, VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTISCHEN SYSTEMS SOWIE VERFAHREN ZUM AUSTAUSCHEN EINES MODULS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten    Einwendung einreichen

Veröff.-Nr.: WO/2019/016235 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/069441
Veröffentlichungsdatum: 24.01.2019 Internationales Anmeldedatum: 17.07.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 27/62 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
27
Andere optische Systeme; andere optische Geräte
62
Optische Geräte besonders zum Justieren optischer Elemente beim Zusammenbau optischer Systeme ausgebildet
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
HARTJES, Joachim; DE
GRUNER, Toralf; DE
FITZSCHE, Steffen; DE
Vertreter:
HORN KLEIMANN WAITZHOFER PATENTANWÄLTE PARTG MBB; Ganghoferstr. 29a 80339 München, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 212 534.921.07.2017DE
Titel (EN) OPTICAL SYSTEM, LITHOGRAPHY MACHINE, METHOD FOR PRODUCING AN OPTICAL SYSTEM, AND METHOD FOR REPLACING A MODULE
(FR) SYSTÈME OPTIQUE, SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SYSTÈME OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE REMPLACEMENT D'UN MODULE
(DE) OPTISCHES SYSTEM, LITHOGRAPHIEANLAGE, VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES OPTISCHEN SYSTEMS SOWIE VERFAHREN ZUM AUSTAUSCHEN EINES MODULS
Zusammenfassung:
(EN) An optical system (200) for a lithography machine (100A, 100B), comprising a first module (202) designed to surround a first part of a beam path (214), a second module (204) which can be connected to the first module (202) and is designed to surround a second part of a beam path (214), and a sensor device (228) provided on the first module (202) and configured to detect a position of the second module (204) relative to the first module (202) independently of and/or outside the beam path (214), so as to align the first module (202) and the second module (204) with each other on the basis of measurements obtained by the sensor device (228), wherein the first module (202) and/or the second module (204) has a mirror (212, 222).
(FR) L'invention concerne un système optique (200), destiné à un système de lithographie (100A, 100B), comprenant un premier module (202) adapté pour renfermer une première partie d'un trajet de faisceau (214), un deuxième module ( 204) qui peut être relié au premier module (202) et qui est conçu pour enfermer une deuxième partie du trajet de faisceau (214) et un dispositif de détection (228) qui est prévu au niveau du premier module (202) et qui est conçu pour détecter la position du deuxième module (204) par rapport au premier module (202) indépendamment et/ou à l'extérieur du trajet de faisceau (214) pour orienter le premier module (202) et le deuxième module (204) l'un par rapport l'autre sur la base de valeurs de mesure détectées par le dispositif de détection (228). Le premier module (202) et/ou le deuxième module (204) comprennent un miroir (212, 222).
(DE) Optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), mit einem ersten Modul (202), das dazu ausgebildet ist, einen ersten Teil eines Strahlengangs (214) zu umschließen, einem mit dem ersten Modul (202) verbindbaren zweiten Modul (204), das dazu ausgebildet ist, einen zweiten Teil des Strahlengangs (214) zu umschließen, und einer an dem ersten Modul (202) vorgesehenen Sensoreinrichtung (228), die dazu eingerichtet ist, eine Lage des zweiten Moduls (204) relativ zu dem ersten Modul (202) unabhängig und/oder außerhalb von dem Strahlengang (214) zu erfassen, um das erste Modul (202) und das zweite Modul (204) basierend auf von der Sensoreinrichtung (228) erfassten Messwerten zueinander auszurichten, wobei das erste Modul (202) und/oder das zweite Modul (204) einen Spiegel (212, 222) aufweist.
front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)