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1. (WO2019011874) BIPOLARPLATTE FÜR EINE ELEKTROCHEMISCHE VORRICHTUNG
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Veröff.-Nr.: WO/2019/011874 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/068571
Veröffentlichungsdatum: 17.01.2019 Internationales Anmeldedatum: 09.07.2018
IPC:
H01M 8/0258 (2016.01) ,H01M 8/0267 (2016.01) ,H01M 8/0297 (2016.01) ,H01M 8/0206 (2016.01) ,H01M 8/0221 (2016.01) ,H01M 8/0273 (2016.01)
[IPC code unknown for H01M 8/0258][IPC code unknown for H01M 8/0267][IPC code unknown for H01M 8/0297][IPC code unknown for H01M 8/0206][IPC code unknown for H01M 8/0221][IPC code unknown for H01M 8/0273]
Anmelder:
ELRINGKLINGER AG [DE/DE]; Max-Eyth-Strasse 2 72581 Dettingen, DE
Erfinder:
BAYER, Arno; DE
STAHL, Peter; DE
KRAFT, Jürgen; DE
Vertreter:
HOEGER, STELLRECHT & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; Uhlandstrasse 14 c 70182 Stuttgart, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 115 873.114.07.2017DE
Titel (EN) BIPOLAR PLATE FOR AN ELECTROCHEMICAL DEVICE
(FR) PLAQUE BIPOLAIRE POUR DISPOSITIF ÉLECTROCHIMIQUE
(DE) BIPOLARPLATTE FÜR EINE ELEKTROCHEMISCHE VORRICHTUNG
Zusammenfassung:
(EN) The invention aims to create a bipolar plate for an electrochemical device, comprising at least a first bipolar plate layer and a second bipolar plate layer, which are joined to one another by a weld seam arrangement, the first bipolar plate layer comprising a first medium through-opening for a first fluid medium and a second medium through-opening for a second fluid medium, in which bipolar plate any seam irregularities occurring in the seal seam arrangement are inconsequential to the tightness of the media chambers. It is thus proposed that the weld seam arrangement comprises a first medium channel weld seam which surrounds the first medium through-opening, a second medium channel weld seam which surrounds the second medium through-opening, and a connecting weld seam which crosses the first medium channel weld seam and the second medium channel weld seam, wherein a) the connecting weld seam is produced by means of a weld energy source which the first bipolar plate layer was facing during the welding process, and the weld seam end of the connecting weld seam lies within the medium-conducting region of the bipolar plate surrounded by the first medium channel weld seam, and/or b) the connecting weld seam crosses the first medium channel weld seam and/or the second medium channel weld seam at least twice in each case.
(FR) L'invention vise à proposer une plaque bipolaire destinée à un dispositif électrochimique comprenant au moins une première couche de plaque bipolaire et une deuxième couche de plaque bipolaire qui sont reliés entre elles par un dispositif de soudage, la première couche de plaque bipolaire comportant une première ouverture de passage destinée à un premier milieu et une deuxième ouverture de passage destinée à un deuxième milieu, dans laquelle les irrégularités de soudure générées dans le dispositif de soudage n’ont aucun effet sur l’étanchéité des espaces de milieu. À cet effet, le dispositif de soudage comporte un premier cordon de soudure de conduit de milieu entourant la première ouverture de passage de milieu, un deuxième cordon de soudure de conduit de milieu entourant la deuxième ouverture de passage de milieu et un cordon de soudure de liaison croisant la premier cordon de soudure de conduit de milieu et le deuxième cordon de soudure de conduit de milieu, a) le cordon de soudure de liaison étant réalisée au moyen d’une source d’énergie de soudage faisant face à la première couche de plaque bipolaire pendant l’opération de soudage, et l’extrémité du cordon de soudure étant située dans la région de guidage de milieu de la plaque bipolaire qui est entourée par le premier cordon de soudure de conduit de milieu et/ou b) le cordon de soudure de liaison croisant le premier cordon de soudure de conduit de milieu et/ou le deuxième cordon de soudure de conduit de milieu au moins deux fois.
(DE) Um eine Bipolarplatte für eine elektrochemische Vorrichtung, umfassend mindestens eine erste Bipolarplattenlage und eine zweite Bipolarplattenlage, die durch eine Schweißnahtanordnung miteinander gefügt sind, wobei die erste Bipolarplattenlage eine erste Medium-Durchtrittsöffnung für ein erstes fluides Medium und eine zweite Medium-Durchtrittsöffnung für ein zweites fluides Medium aufweist, zu schaffen, bei welcher in der Schweißnahtanordnung auftretende Nahtunregelmäßigkeiten keine Auswirkungen auf die Dichtigkeit der Medienräume haben, wird vorgeschlagen, dass die Schweißnahtanordnung eine erste Mediumkanal-Schweißnaht, welche die erste Medium-Durchtrittsöffnung umgibt, eine zweite Mediumkanal-Schweißnaht, welche die zweite Medium-Durchtrittsöffnung umgibt, und eine Verbindungs-Schweißnaht umfasst, welche die erste Mediumkanal-Schweißnaht und die zweite Mediumkanal-Schweißnaht kreuzt, wobei a) die Verbindungs-Schweißnaht mittels einer Schweißenergiequelle erzeugt ist, welcher die erste Bipolarplattenlage während des Schweißvorgangs zugewandt war, und das Schweißnahtende der Verbindungs-Schweißnaht innerhalb des von der ersten Mediumkanal-Schweißnaht umgebenen mediumführenden Bereichs der Bipolarplatte liegt und/oder b) die Verbindungs-Schweißnaht die erste Mediumkanal-Schweißnaht und/oder die zweite Mediumkanal-Schweißnaht jeweils mindestens zweimal kreuzt.
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Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)