Einige Inhalte dieser Anwendung sind momentan nicht verfügbar.
Wenn diese Situation weiterhin besteht, kontaktieren Sie uns bitte unterFeedback&Kontakt
1. (WO2019009316) MULTILAYER FILM STACK
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten    Einwendung einreichen

Veröff.-Nr.: WO/2019/009316 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2018/025294
Veröffentlichungsdatum: 10.01.2019 Internationales Anmeldedatum: 04.07.2018
IPC:
G02B 5/30 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 27/08 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01)
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
5
Optische Elemente außer Linsen
30
Polarisationselemente
B Arbeitsverfahren; Transportieren
32
Schichtkörper
B
Schichtkörper, d.h. aus Ebenen oder gewölbten Schichten, z.B. mit zell- oder wabenförmiger Form, aufgebaute Erzeugnisse
7
Schichtkörper, gekennzeichnet durch die gegenseitige Zuordnung von Schichten, d.h. Erzeugnisse, die hauptsächlich aus Schichten mit verschiedenen physikalischen Eigenschaften bestehen oder Erzeugnisse, die durch die gegenseitige Verbindung der Schichten gekennzeichnet sind
02
in Bezug auf physikalische Eigenschaften, z.B. Härte
B Arbeitsverfahren; Transportieren
32
Schichtkörper
B
Schichtkörper, d.h. aus Ebenen oder gewölbten Schichten, z.B. mit zell- oder wabenförmiger Form, aufgebaute Erzeugnisse
27
Schichtkörper, die als wichtigen Bestandteil Kunstharz enthalten
06
als hauptsächlichen oder einzigen Bestandteil einer Schicht, die an einer anderen Schicht aus besonderem Werkstoff anliegt
08
aus Kunstharz unterschiedlicher Art
G Physik
02
Optik
F
Vorrichtungen oder Anordnungen, deren optische Arbeitsweise durch Änderung der optischen Eigenschaften des Mediums der Vorrichtungen oder Anordnungen geändert wird zum Steuern der Intensität, Farbe, Phase, Polarisation oder der Richtung von Lichtstrahlen, z.B. Schalten, Austasten, Modulieren oder Demodulieren; Techniken oder Verfahren für deren Arbeitsweise; Frequenzänderung; nichtlineare Optik; optische logische Elemente; optische Analog-Digital-Umsetzer
1
Vorrichtungen oder Anordnungen zum Steuern der Intensität, Farbe, Phase, Polarisation oder der Richtung von Lichtstrahlen einer unabhängigen Lichtquelle, z.B. Schalten, Austasten oder Modulieren; nichtlineare Optik
01
zum Steuern der Intensität, der Phase, der Polarisation oder der Farbe
13
basierend auf Flüssigkristallen, z.B. einzelne Flüssigkristall-Anzeigezellen
133
Konstruktiver Aufbau; Betrieb von Flüssigkristallzellen; Schaltungsanordnungen
1333
Konstruktiver Aufbau
1335
bauliche Vereinigung von optischen Vorrichtungen, z.B. Polarisatoren, Reflektoren, mit der Zelle
Anmelder:
帝人フィルムソリューション株式会社 TEIJIN FILM SOLUTIONS LIMITED [JP/JP]; 東京都千代田区霞が関三丁目2番1号 2-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1000013, JP
Erfinder:
廣瀬 周 HIROSE Amane; JP
東條 光峰 TOJO Mitsuo; JP
Vertreter:
為山 太郎 TAMEYAMA, Taro; JP
Prioritätsdaten:
2017-13370307.07.2017JP
Titel (EN) MULTILAYER FILM STACK
(FR) EMPILEMENT DE FILM MULTICOUCHE
(JA) 多層積層フィルム
Zusammenfassung:
(EN) A multilayer film stack includes: a multilayered stack structure wherein a first layer containing a first resin and a second layer containing a second resin are alternately stacked; and a thick film layer in contact with the multilayered stack structure. The multilayered stack structure includes a layer thickness profile that has a repeating unit made up of a single first layer and a single second layer having a physical thickness. The layer thickness profile includes a region of monotonically-increasing thickness and a thin layer region. The thin layer region has at least three repeating units. A ratio L2/L1 is 0.85 or less and a ratio A2/L1 is 0.70 or less where L1 represents the maximum thickness of the repeating units in the region of monotonically-increasing thickness, L2 represents the maximum thickness of the repeating units in the thin layer region, and A2 represents an average thickness in the thin layer region. The thin layer region is located on the thicker portion side of the region of monotonically-increasing thickness to come in contact with the thick film layer.
(FR) La présente invention concerne un empilement de film multicouche qui comprend : une structure d’empilement multicouche dans laquelle une première couche contenant une première résine et une deuxième couche contenant une deuxième résine sont empilées en alternance ; et une couche de film épaisse en contact avec la structure d’empilement multicouche. La structure d’empilement multicouche comprend un profil d’épaisseur de couche qui comporte un motif de répétition constitué d’une première couche unique et d’une deuxième couche unique ayant une épaisseur physique. Le profil d’épaisseur de couche comprend une région d’épaisseur augmentant de façon monotone et une région de couche mince. La région de couche mince comporte au moins trois motifs de répétition. Un rapport L2/L1 est de 0,85 ou moins et un rapport A2/L1 est de 0,70 ou moins, où L1 représente l’épaisseur maximale des motifs de répétition dans la région d’épaisseur augmentant de façon monotone, L2 représente l’épaisseur maximale des motifs de répétition dans la région de couche mince, et A2 représente une épaisseur moyenne dans la région de couche mince. La région de couche mince est située sur le côté de la partie plus épaisse de la région d’épaisseur augmentant de façon monotone de façon à venir en contact avec la couche de film épaisse.
(JA) 第1の樹脂を含む第1層と第2の樹脂を含む第2層とが交互に積層した多層積層構造と、それに接した厚膜層とを有しており、前記多層積層構造は、1つの第1層と1つの第2層とを有する繰返し単位の物理厚みでの層厚みプロファイルを有し、当該層厚みプロファイルは厚み単調増加領域と薄層領域とを有し、前記薄層領域は、少なくとも3つの繰り返し単位を有し、薄層領域における繰り返し単位の最大厚みをL2として、厚み単調増加領域における繰り返し単位の最大厚みL1との比L2/L1が0.85以下であり、且つ、薄層領域の平均厚みをA2として、厚み単調増加領域における繰り返し単位の最大厚みL1との比A2/L1が0.70以下である領域であり、前記薄層領域が厚み単調増加領域の厚みが厚い側にあり、そして厚膜層と接するように存在する、多層積層フィルム。
front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)