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1. (WO2019008738) FIELD EMISSION-TYPE ELECTRON SOURCE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
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Veröff.-Nr.: WO/2019/008738 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2017/024942
Veröffentlichungsdatum: 10.01.2019 Internationales Anmeldedatum: 07.07.2017
IPC:
H01J 37/073 (2006.01) ,H01J 1/304 (2006.01) ,H01J 1/46 (2006.01) ,H01J 9/02 (2006.01) ,H01J 37/06 (2006.01)
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
02
Einzelheiten
04
Anordnungen der Elektroden und zugeordneten Teile zum Erzeugen oder Steuern der Entladung, z.B. elektronenoptische oder ionenoptische Anordnung
06
Elektronenquellen; Elektronenstrahlerzeuger
073
Elektronenkanonen, die Feldemissions-, Fotoemissions- oder Sekundäremissionselektronenquellen verwenden
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
1
Einzelheiten von Elektroden, magnetischen Steuerungen, Abschirmungen oder von deren Befestigung oder Abstandshalterung, die zwei oder mehr Grundtypen von Entladungsröhren oder -lampen gemeinsam sind
02
Hauptelektroden
30
Kaltkathoden
304
Feldemissions-Kathoden
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
1
Einzelheiten von Elektroden, magnetischen Steuerungen, Abschirmungen oder von deren Befestigung oder Abstandshalterung, die zwei oder mehr Grundtypen von Entladungsröhren oder -lampen gemeinsam sind
46
Steuerelektroden, z.B. Gitter; Hilfselektroden
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
9
Geräte oder Verfahren, die in besonderer Weise für die Herstellung von elektrischen Entladungsröhren, Entladungslampen oder deren Teilen ausgebildet sind; Stoffliche Rückgewinnung von Materialien aus Entladungsröhren oder -lampen
02
Herstellung von Elektroden oder Elektrodensystemen
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
02
Einzelheiten
04
Anordnungen der Elektroden und zugeordneten Teile zum Erzeugen oder Steuern der Entladung, z.B. elektronenoptische oder ionenoptische Anordnung
06
Elektronenquellen; Elektronenstrahlerzeuger
Anmelder:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Erfinder:
武居 亜紀 TAKEI Aki; JP
片桐 創一 KATAGIRI Souichi; JP
松永 宗一郎 MATSUNAGA Soichiro; JP
川野 源 KAWANO Hajime; JP
土肥 隆 DOI Takashi; JP
Vertreter:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
Prioritätsdaten:
Titel (EN) FIELD EMISSION-TYPE ELECTRON SOURCE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) SOURCE D'ÉLECTRONS DU TYPE À ÉMISSION DE CHAMP ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 電界放出型電子源および荷電粒子線装置
Zusammenfassung:
(EN) Provided are: a field emission-type electron source with which the influence of an electric field can be suppressed and stable long-term emission characteristics can be obtained even when a diffusion supply source is disposed close to the tip of a needle-like electrode; and a charged particle beam device using the same. According to the present invention, a suppressor electrode 4 is disposed to cover a filament 3 and the needle-like electrode 1 excluding a portion, of the needle-like electrode 1, protruding from an opening part 5 of the suppressor electrode 4, and a diffusion supply source 9 for supplying zirconia that is diffused onto the surface of the needle-like electrode 1 is formed around the needle-like electrode 1, wherein the diffusion supply source 9 has a thickness of 10 μm or more in at least the portion covered by the suppressor electrode 4, and has a thickness of 100 nm or more in the portion protruding from the opening part 5.
(FR) L'invention concerne : une source d'électrons du type à émission de champ avec laquelle l'influence d'un champ électrique peut être supprimée et des caractéristiques d'émission à long terme stables peuvent être obtenues même lorsqu'une source d'alimentation en diffusion est disposée à proximité de la pointe d'une électrode du type aiguille ; et un dispositif à faisceau de particules chargées l'utilisant. Selon la présente invention, une électrode de suppression (4) est disposée pour recouvrir un filament (3) et l'électrode du type aiguille (1) à l'exclusion d'une partie, de l'électrode du type aiguille (1), faisant saillie à partir d'une partie d'ouverture (5) de l'électrode de suppression (4), et une source d'alimentation en diffusion (9) permettant de fournir de la zircone qui est diffusée sur la surface de l'électrode du type aiguille (1) est formée autour de l'électrode du type aiguille (1), la source d'alimentation en diffusion (9) présentant une épaisseur de 10 µm ou plus dans au moins la partie recouverte par l'électrode de suppression (4) et présente une épaisseur de 100 nm ou plus dans la partie faisant saillie à partir de la partie d'ouverture (5).
(JA) 拡散供給源を針状電極の先端により近くに配置しても電場の影響の影響を抑え、安定した長期エミッション特性が得られる電界放出型電子源およびそれを用いた荷電粒子線装置を提供する。サプレッサ電極4の開口部5より突き出した針状電極1の部分を除いて、フィラメント3及び針状電極1を覆うようにサプレッサ電極4が配置され、針状電極1の周りには、その表面に拡散されるジルコニアを供給する拡散供給源9が形成されており、拡散供給源9は、少なくともサプレッサ電極4に覆われた部分においては10μm以上の厚さを有し、開口部5より突き出した部分においては100nm以上の厚さを有する。
front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)