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1. (WO2019006221) GENERATING HIGH RESOLUTION IMAGES FROM LOW RESOLUTION IMAGES FOR SEMICONDUCTOR APPLICATIONS
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Veröff.-Nr.: WO/2019/006221 Internationale Anmeldenummer PCT/US2018/040160
Veröffentlichungsdatum: 03.01.2019 Internationales Anmeldedatum: 29.06.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/66 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
66
Prüfen oder Messen während der Herstellung oder Behandlung
Anmelder:
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Erfinder:
SHARMA, Saurabh; IN
DANDIANA, Amitoz S.; IN
MAHADEVAN, Mohan; US
FANG, Chao; US
AZORDEGAN, Amir; US
DUFFY, Brian; US
Vertreter:
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M.N; US
Prioritätsdaten:
16/019,42226.06.2018US
20174102306330.06.2017IN
62/545,90615.08.2017US
Titel (EN) GENERATING HIGH RESOLUTION IMAGES FROM LOW RESOLUTION IMAGES FOR SEMICONDUCTOR APPLICATIONS
(FR) GÉNÉRATION D’IMAGES À HAUTE RÉSOLUTION À PARTIR D’IMAGES À BASSE RÉSOLUTION POUR DES APPLICATIONS À SEMI-CONDUCTEURS
Zusammenfassung:
(EN) Methods and systems for generating a high resolution image for a specimen from a low resolution image of the specimen are provided. One system includes one or more computer subsystems configured for acquiring a low resolution image of a specimen. The system also includes one or more components executed by the one or more computer subsystems. The one or more components include a deep convolutional neural network that includes one or more first layers configured for generating a representation of the low resolution image. The deep convolutional neural network also includes one or more second layers configured for generating a high resolution image of the specimen from the representation of the low resolution image. The second layer(s) include a final layer configured to output the high resolution image and configured as a sub-pixel convolutional layer.
(FR) L’invention concerne des procédés et des systèmes pour générer une image à haute résolution pour un spécimen à partir d’une image à basse résolution du spécimen. Un système comprend un ou plusieurs sous-systèmes informatiques configurés pour acquérir une image à basse résolution d’un spécimen. Le système comprend également un ou plusieurs composants exécutés par le ou les sous-systèmes informatiques. Le ou les composants comprennent un réseau neuronal convolutif profond qui comprend une ou plusieurs premières couches configurées pour générer une représentation de l'image à basse résolution. Le réseau neuronal convolutif profond comprend également une ou plusieurs secondes couches configurées pour générer une image à haute résolution du spécimen à partir de la représentation de l'image à basse résolution. La ou les seconde(s) couche(s) comprennent une couche finale configurée pour émettre l'image à haute résolution configurée sous forme d'une couche convolutive à sous-pixels.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)