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1. (WO2019001873) METHODS AND PATTERNING DEVICES AND APPARATUSES FOR MEASURING FOCUS PERFORMANCE OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD
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Veröff.-Nr.: WO/2019/001873 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/063959
Veröffentlichungsdatum: 03.01.2019 Internationales Anmeldedatum: 28.05.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Erfinder:
STAALS, Frank; NL
VAN OOSTEN, Anton, Bernhard; NL
YUDHISTIRA, Yasri; US
LUIJTEN, Carlo, Cornelis, Maria; NL
VERSTRAETEN, Bert; NL
GEMMINK, Jan-Willem; NL
Vertreter:
WILLEKENS, Jeroen, Pieter, Frank; NL
Prioritätsdaten:
17177774.126.06.2017EP
Titel (EN) METHODS AND PATTERNING DEVICES AND APPARATUSES FOR MEASURING FOCUS PERFORMANCE OF A LITHOGRAPHIC APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉS ET DISPOSITIFS ET APPAREILS DE FORMATION DE MOTIFS PERMETTANT DE MESURER LES PERFORMANCES DE FOCALISATION D’UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Zusammenfassung:
(EN) Focus metrology patterns and methods are disclosed which do not rely on sub-resolution features. Focus can be measured by measuring asymmetry of the printed pattern (T), or complementary pairs of printed patterns (TN/TM). Asymmetry can be measured by scatterometry. Patterns may be printed using EUV radiation or DUV radiation. A first type of focus metrology pattern comprises first features (422) interleaved with second features (424). A minimum dimension (w1) of each first feature is close to a printing resolution. A maximum dimension (w2) of each second feature in the direction of periodicity is at least twice the minimum dimension of the first features. Each first feature is positioned between two adjacent second features such that a spacing (w1') and its nearest second feature is between one half and twice the minimum dimension of the first features. A second type of focus metrology pattern comprises features (1122, 1124) arranged in pairs.
(FR) L’invention concerne des motifs et des procédés de métrologie de focalisation qui ne reposent pas sur des caractéristiques de sous-résolution. La focalisation peut être mesurée par des mesures de l’asymétrie du motif imprimé (T) ou de paires complémentaires de motifs imprimés (TN/TM). L’asymétrie peut être mesurée par diffusiométrie. Des motifs peuvent être imprimés à l’aide d’un rayonnement EUV ou d’un rayonnement DUV. Un premier type de motif de métrologie de focalisation comprend des premières caractéristiques (422) entrelacées avec des deuxièmes caractéristiques (424). Une dimension minimale (w1) de chaque première caractéristique est proche d’une résolution d’impression. Une dimension maximale (w2) de chaque deuxième caractéristique dans la direction de périodicité est au moins égale au double de la dimension minimale des premières caractéristiques. Chaque première caractéristique est positionnée entre deux deuxièmes caractéristiques adjacentes de telle façon qu’un espacement (w1') et sa deuxième caractéristique la plus proche se trouvent entre une moitié et le double de la dimension minimale des premières caractéristiques. Un deuxième type de motif de métrologie de focalisation comprend des caractéristiques (1122, 1124) disposées sous forme de paires.
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African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)