Einige Inhalte dieser Anwendung sind momentan nicht verfügbar.
Wenn diese Situation weiterhin besteht, kontaktieren Sie uns bitte unterFeedback&Kontakt
1. (WO2018234426) BEHÄLTER ZUM EINSATZ IN STEREOLITHOGRAPHIE-ANLAGEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten    Einwendung einreichen

Veröff.-Nr.: WO/2018/234426 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/066528
Veröffentlichungsdatum: 27.12.2018 Internationales Anmeldedatum: 21.06.2018
IPC:
B33Y 30/00 (2015.01) ,B29C 64/209 (2017.01) ,B29C 64/255 (2017.01) ,B29C 64/321 (2017.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,B22F 3/105 (2006.01) ,B29K 105/00 (2006.01) ,A61C 13/00 (2006.01)
[IPC code unknown for B33Y 30][IPC code unknown for B29C 64/209][IPC code unknown for B29C 64/255][IPC code unknown for B29C 64/321]
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
B Arbeitsverfahren; Transportieren
22
Gießerei; Pulvermetallurgie
F
Verarbeiten von Metallpulver; Herstellen von Gegenständen aus Metallpulver; Gewinnung von Metallpulver; Apparate oder Vorrichtungen besonders ausgebildet für Metallpulver
3
Herstellen von Gegenständen oder Halbzeug aus Metallpulver in Bezug auf die Art des Verdichtens oder Sinterns; Apparate hierfür
10
nur durch Sintern
105
mittels elektrischer Widerstandserhitzung, Laserstrahlen oder Plasma
B Arbeitsverfahren; Transportieren
29
Verarbeiten von Kunststoffen; Verarbeiten von Stoffen in plastischem Zustand allgemein
K
Index-Schema für Formmassen oder Materialien für Verstärkungen, Füllstoffe oder vorgeformte Teile, z.B. Einlagen in Verbindung mit den Unterklassen B29B , B29C oder B29D252
105
Beschaffenheit, Form oder Zustand der Formmasse
A Täglicher Lebensbedarf
61
Medizin oder Tiermedizin; Hygiene
C
Zahnheilkunde; Geräte oder Methoden für Mund- oder Zahnpflege
13
Zahnprothesen; deren Herstellung
Anmelder:
SIRONA DENTAL SYSTEMS GMBH [DE/DE]; Fabrikstr. 31 64625 Bensheim, DE
Erfinder:
SCHMIDT, Christian; DE
Vertreter:
SOMMER, Peter; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 210 384.121.06.2017DE
Titel (EN) CONTAINER FOR USE IN STEREOLITHOGRAPHIC SYSTEMS
(FR) CONTENANT S’UTILISANT DANS DES INSTALLATIONS DE STÉRÉOLITHOGRAPHIE
(DE) BEHÄLTER ZUM EINSATZ IN STEREOLITHOGRAPHIE-ANLAGEN
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a container (100) for holding a photosensitive liquid for use in a stereolithographic system (410) in which a reference layer is exposed to radiation for the layer-by-layer or continuous construction of workpieces. At least one element (130) of the container which is directly adjacent to the reference layer consists of at least one material which is at least partially permeable to the radiation and at least some of which has structures and/or pores which can receive and discharge, preferably also store, an inhibitor and/or an inhibitor mixture. Therefore, the element is not just able to supply the inhibitor but to a significant extent consists of the inhibitor itself, as a result of which the supplied flow is equalised or homogenised. Rapid or even continuous 3D printing is thus made possible in a cost-effective manner.
(FR) L'invention concerne un contenant (100) destiné à recevoir un liquide photosensible et s’utilisant dans une installation de stéréolithographie (410), dans laquelle une couche de référence est exposée à un rayonnement de manière à réaliser des pièces couche par couche ou en continu. Au moins un élément (130) du contenant, qui jouxte directement la couche de référence, se compose d’au moins un matériau qui laisse passer au moins partiellement le rayonnement et présente au moins partiellement des structures et/ou des pores, lesquels sont en mesure d’absorber et de céder un inhibiteur et/ou un mélange d’inhibiteurs, de préférence de le(s) stocker. L’élément n’est pas uniquement destiné à alimenter l’inhibiteur, mais se compose dans une large mesure de l’inhibiteur en soi, ce qui permet d’équilibrer et/ou d’homogénéiser l'amenée. L’invention permet ainsi d’effectuer une impression 3 D plus rapide, voire continue, et par conséquent économique.
(DE) Vorgeschlagen wird ein Behälter (100) zur Aufnahme einer fotosensitiven Flüssigkeit zur Verwendung in einer Stereolithographie-Anlage (410), in der eine Referenzschicht zum schichtweisen oder kontinuierlichen Aufbauen von Werkstücken mit Strahlung belichtet wird. Mindestens ein Element (130) des Behälters, das unmittelbar an die Referenzschicht grenzt, besteht aus zumindest einem Material, welches zumindest teilweise für die Strahlung durchlässig ist und zumindest teilweise Strukturen und/oder Poren aufweist, die in der Lage sind, einen Inhibitor und/oder ein Inhibitor-Gemisch aufzunehmen und abzugeben, bevorzugt auch zu speichern. Das Element kann also nicht bloß den Inhibitor zuführen, sondern besteht zu einem signifikanten Anteil aus dem Inhibitor selbst, wodurch der Zufluss ausgeglichen bzw. homogenisiert wird. Ein schneller oder sogar kontinuierlicher 3D-Druck wird somit auf kostengünstige Weise möglich.
front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)