Einige Inhalte dieser Anwendung sind momentan nicht verfügbar.
Wenn diese Situation weiterhin besteht, kontaktieren Sie uns bitte unterFeedback&Kontakt
1. (WO2018234233) SCHICHTWIDERSTAND UND DÜNNFILMSENSOR
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten    Einwendung einreichen
Veröff.-Nr.: WO/2018/234233 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/066099
Veröffentlichungsdatum: 27.12.2018 Internationales Anmeldedatum: 18.06.2018
IPC:
G01L 9/06 (2006.01) ,G01L 1/18 (2006.01) ,H01C 17/065 (2006.01)
G Physik
01
Messen; Prüfen
L
Messen von Kraft, mechanischer Spannung, Drehmoment, Arbeit, mechanischer Leistung, mechanischem Wirkungsgrad oder des Drucks von Fluiden
9
Messen des stationären oder quasi-stationären Druckes eines Fluids oder eines fließfähigen festen Stoffes durch elektrische oder magnetische, druckempfindliche Elemente; Übertragen oder Anzeigen der Verschiebung druckempfindlicher Elemente, verwendet zum Messen des stationären oder quasi-stationären Druckes eines Fluids oder eines fließfähigen festen Stoffes durch elektrische oder magnetische Einrichtungen
02
unter Ausnutzung der Änderungen in einem ohmschen Widerstand, z.B. von Potenziometern
06
mit piezoresistiven Vorrichtungen
G Physik
01
Messen; Prüfen
L
Messen von Kraft, mechanischer Spannung, Drehmoment, Arbeit, mechanischer Leistung, mechanischem Wirkungsgrad oder des Drucks von Fluiden
1
Kraftmessung oder Messen der mechanischen Spannung allgemein
18
durch Anwendung der Eigenschaften von Piezowiderstandsmaterialien, d.h. von Materialien, deren ohmscher Widerstand sich entsprechend den Änderungen der Größe oder der Richtung der auf das Material einwirkenden Kraft ändert
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
C
Widerstände
17
Vorrichtungen oder Verfahren, die in besonderer Weise zum Herstellen von Widerständen geeignet sind
06
geeignet für das Beschichten eines Trägers mit Widerstandsmaterial
065
durch Dickschicht-Techniken, z.B. Siebdruck
Anmelder:
TDK ELECTRONICS AG [DE/DE]; Rosenheimer Str. 141 e 81671 München, DE
Erfinder:
MILKE, Bettina; DE
OSTRICK, Bernhard; DE
Vertreter:
EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Schloßschmidstr. 5 80639 München, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 113 401.819.06.2017DE
Titel (EN) FILM RESISTOR AND THIN-FILM SENSOR
(FR) RÉSISTANCE À COUCHE ET CAPTEUR À COUCHE MINCE
(DE) SCHICHTWIDERSTAND UND DÜNNFILMSENSOR
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a film resistor comprising a piezoresistive layer, the piezoresistive layer containing a first transition metal carbide. Further disclosed is a thin-film sensor comprising the film resistor.
(FR) L'invention concerne une résistance à couche qui présente une couche piézorésistive, ladite couche piézorésistive contenant un premier carbure de métal de transition. L'invention concerne en outre un capteur à couche mince comportant ladite résistance à couche.
(DE) Es wird ein Schichtwiderstand angegeben, der eine piezioresistive Schicht aufweist, wobei die piezoresistive Schicht ein erstes Übergangsmetallcarbid enthält. Weiterhin wird ein Dünnfilmsensor aufweisend den Schichtwiderstand angegeben.
 front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)