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1. (WO2018228133) IMPEDANCE MATCHING METHOD, IMPEDANCE MATCHING APPARATUS AND PLASMA GENERATION DEVICE
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Veröff.-Nr.: WO/2018/228133 Internationale Anmeldenummer PCT/CN2018/087612
Veröffentlichungsdatum: 20.12.2018 Internationales Anmeldedatum: 21.05.2018
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32
Gasgefüllte Entladungsröhren
Anmelder:
北京北方华创微电子装备有限公司 BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 北京经济技术开发区文昌大道8号 NO.8 Wenchang Avenue Beijing Economic-Technological Development Area, Beijing 100176, CN
Erfinder:
杨京 YANG, Jing; CN
韦刚 WEI, Gang; CN
卫晶 WEI, Jing; CN
Vertreter:
北京天昊联合知识产权代理有限公司 TEE&HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; 中国北京市 东城区建国门内大街28号民生金融中心D座10层张天舒 Tianshu ZHANG 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005, CN
Prioritätsdaten:
201710454753.315.06.2017CN
Titel (EN) IMPEDANCE MATCHING METHOD, IMPEDANCE MATCHING APPARATUS AND PLASMA GENERATION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'ADAPTATION D'IMPÉDANCE, APPAREIL D'ADAPTATION D'IMPÉDANCE ET DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PLASMA
(ZH) 阻抗匹配方法、阻抗匹配装置及等离子体产生设备
Zusammenfassung:
(EN) Disclosed are an impedance matching method, an impedance matching apparatus and a plasma generation device. The impedance matching method is used for matching the impedance between a radio-frequency source and a load connected to the radio-frequency source, and comprises: selectively performing an automatic matching step or a frequency sweep matching step according to the working mode of the radio-frequency source, wherein in the automatic matching step, indicating a motor to drive an impedance matching network to provide a certain impedance; and in the frequency sweep matching step, indicating the motor to stop driving and the radio-frequency source to perform a frequency sweep operation. According to embodiments of the present invention, the phenomenon of unstable and non-repetitive matching caused by fast impedance change in the impedance matching process can be effectively avoided, and a larger process window and the process stability can be implemented.
(FR) La présente invention concerne un procédé d'adaptation d'impédance, un appareil d'adaptation d'impédance et un dispositif de génération de plasma. Le procédé d'adaptation d'impédance est destiné à adapter l'impédance entre une source radiofréquence et une charge connectée à la source radiofréquence, et consiste : à réaliser de manière sélective une étape d'adaptation automatique ou une étape d'adaptation de balayage de fréquence selon le mode de fonctionnement de la source radiofréquence, dans l'étape d'adaptation automatique, à indiquer à un moteur d'entraîner un réseau d'adaptation d'impédance afin de fournir une certaine impédance ; et dans l'étape d'adaptation de balayage de fréquence, à indiquer au moteur d'arrêter l'entraînement et à la source radiofréquence d'effectuer une opération de balayage de fréquence. Selon des modes de réalisation de la présente invention, le phénomène d'adaptation instable et non répétitif provoqué par un changement d'impédance rapide dans le processus d'adaptation d'impédance peut être efficacement évité, et une fenêtre de traitement plus grande et la stabilité de processus peuvent être mises en œuvre.
(ZH) 本发明公开了阻抗匹配方法、阻抗匹配装置及等离子体产生设备。该阻抗匹配方法用于对射频源和射频源连接的负载之间的阻抗进行匹配，包括：根据射频源的工作模式，选择性地进行自动匹配步骤或者扫频匹配步骤；其中，在自动匹配步骤中，指示电机驱动匹配阻抗网络以提供一定的阻抗；在扫频匹配步骤中，指示电机停止驱动以及射频源进行扫频操作。根据本公开的实施例，可以有效避免阻抗匹配过程中由于阻抗变化过快导致的匹配不稳定和不重复的现象，可以实现较大的工艺窗口和工艺稳定性。
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Chinesisch (ZH)
Anmeldesprache: Chinesisch (ZH)