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1. (WO2018226274) PLASMA PROCESSING APPARATUS WITH POST PLASMA GAS INJECTION
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Veröff.-Nr.: WO/2018/226274 Internationale Anmeldenummer PCT/US2018/020098
Veröffentlichungsdatum: 13.12.2018 Internationales Anmeldedatum: 28.02.2018
IPC:
H01J 37/32 (2006.01)
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32
Gasgefüllte Entladungsröhren
Anmelder:
MATTSON TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 47131 Bayside Parkway Fremont, California 94538, US
Erfinder:
MA, Shawming; US
NAGORNY, Vladimir; US
DESAI, Dixit V.; US
PAKULSKI, Ryan M.; US
Vertreter:
WORKMAN, Parks, J.; US
Prioritätsdaten:
15/851,92222.12.2017US
62/517,36509.06.2017US
Titel (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS WITH POST PLASMA GAS INJECTION
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA AVEC INJECTION DE GAZ POST-PLASMA
Zusammenfassung:
(EN) Plasma processing with post plasma gas injection is provided. In one example implementation, a plasma processing apparatus includes a plasma chamber. The apparatus includes a processing chamber separated from the plasma chamber. The processing chamber includes a substrate holder operable to support a workpiece. The apparatus includes a plasma source configured to generate a plasma in the plasma chamber. The apparatus includes a separation grid separating the plasma chamber from the processing chamber. The separation grid can be configured to filter one or more ions generated in the plasma and allow the passage of neutral particles from the plasma chamber to the processing chamber. The apparatus can include at least one gas port configured to inject a gas into neutral particles passing through the separation grid.
(FR) L'invention concerne un traitement au plasma avec injection de gaz post-plasma. Dans un mode de réalisation donné à titre d'exemple, un appareil de traitement au plasma peut comprendre une chambre à plasma. L'appareil comprend une chambre de traitement séparée de la chambre à plasma. La chambre de traitement comprend un support de substrat utilisable pour supporter une pièce à travailler. L'appareil comprend une source de plasma conçue pour générer un plasma dans la chambre à plasma. L'appareil comprend une grille de séparation séparant la chambre à plasma de la chambre de traitement. La grille de séparation peut être conçue pour filtrer un ou plusieurs ions générés dans le plasma et permettre le passage de particules neutres de la chambre à plasma vers la chambre de traitement. L'appareil peut comprendre au moins un orifice de gaz conçu pour injecter un gaz dans des particules neutres passant à travers la grille de séparation.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)