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1. (WO2018224245) VORRICHTUNG ZUR AUSRICHTUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS
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Veröff.-Nr.: WO/2018/224245 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/062325
Veröffentlichungsdatum: 13.12.2018 Internationales Anmeldedatum: 14.05.2018
IPC:
G02B 7/182 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
7
Halterungen, Fassungen, Justiereinrichtungen oder lichtdichte Verbindungen für optische Elemente
18
für Prismen; für Spiegel
182
für Spiegel
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
WUESTNER, Sebastian; DE
NEFZI, Marwene; DE
PNINI-MITTLER, Boaz; DE
HEMBACHER, Stefan; DE
Vertreter:
LORENZ, Markus; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 209 794.909.06.2017DE
Titel (EN) DEVICE FOR ADJUSTING AN OPTICAL ELEMENT
(FR) DISPOSITIF POUR L’ORIENTATION D’UN ÉLÉMENT OPTIQUE
(DE) VORRICHTUNG ZUR AUSRICHTUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a device (1) for adjusting an optical element (2), comprising an actuation device (3) having a plurality of actuation units (4) for adjusting the optical element (2), wherein the actuation units (4) are connected to the optical element (2) via securing points (5) and they exert a force on the optical element (2) in order to adjust the optical element (2). A measuring device (6) is provided for determining parasitic forces (FP) and/or parasitic torques (MP) acting on the optical element (2). A compensation device (7) is also provided, comprising at least one compensation unit (8), wherein the at least one compensation unit (8) applies a compensation force (FK) and/or a compensation torque (MK) to the optical element (2), based on data from the measuring device (6), in order to correct the parasitic forces (FP) and/or the parasitic torques (MP).
(FR) L’invention concerne un dispositif (1) pour l‘orientation d’un élément optique (2), comprenant un dispositif d’actionnement (3) qui comprend une pluralité d’unités d’actionnement (4) pour l’orientation de l’élément optique (2), l’unité d’actionnement (4) étant connectée à l’élément optique (2) par l'intermédiaire des points de fixation (5) et appliquant une force sur l’élément optique (2) pour orienter l’élément optique (2). Un dispositif de mesure (6) est prévu pour la détermination des forces parasites (FP) et/ou couples parasites (MP) agissant sur l'élément optique (2). Un dispositif de compensation (7) comprenant au moins une unité de compensation (8) est aussi prévu, l’au moins une unité de compensation (8) appliquant une force de compensation (FK) et/ou un couple de compensation (MK) sur l’élément optique (2) sur la base de données du dispositif de mesure (6), pour corriger les forces parasites (FP) et/ou les couples parasites (MP).
(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Ausrichtung eines optischen Elements (2), mit einer Betätigungseinrichtung (3) welche eine Mehrzahl von Betätigungseinheiten (4) zur Ausrichtung des optischen Elements (2) aufweist, wobei die Betätigungseinheit (4) über Befestigungspunkte (5) mit dem optischen Element (2) verbunden sind und eine Kraft auf das optische Element (2) aufbringen um das optische Element (2) auszurichten. Vorgesehen ist eine Messeinrichtung (6) zur Bestimmung von auf das optische Element (2) wirkenden parasitären Kräften (FP) und/oder parasitären Momenten (MP). Ferner ist eine Kompensationseinrichtung (7) mit wenigstens einer Kompensationseinheit (8) vorgesehen, wobei die wenigstens eine Kompensationseinheit (8) auf Basis von Daten der Messeinrichtung (6) eine Kompensationskraft (FK) und/oder ein Kompensationsmoment (MK) auf das optische Element (2) aufbringt, um die parasitären Kräfte (FP) und/oder die parasitären Momente (MP) zu korrigieren.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)