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1. (WO2018206220) KERAMISCHE OBERFLÄCHE, CMC-BAUTEIL UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG
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Veröff.-Nr.: WO/2018/206220 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/059428
Veröffentlichungsdatum: 15.11.2018 Internationales Anmeldedatum: 12.04.2018
IPC:
C04B 41/80 (2006.01) ,C04B 41/87 (2006.01)
[IPC code unknown for C04B 41/80][IPC code unknown for C04B 41/87]
Anmelder:
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Werner-von-Siemens-Straße 1 80333 München, DE
Erfinder:
BECK, Thomas; DE
DIETRICH, Jens; DE
HOLLINGSWORTH, Peter Stuart; DE
KREUZIGER, Sven; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 208 046.912.05.2017DE
Titel (EN) CERAMIC SURFACE, CMC COMPONENT AND PRODUCTION METHOD
(FR) SURFACE CÉRAMIQUE, ÉLÉMENT STRUCTURAL EN CMC ET PROCÉDÉ DE FABRICATION
(DE) KERAMISCHE OBERFLÄCHE, CMC-BAUTEIL UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG
Zusammenfassung:
(EN) A surface roughness of CMC components is achieved, which serves for better adhesion of ceramic layers, by producing targeted structures by means of webs, which enclose surfaces.
(FR) La réalisation de structures ciblées au moyen d'éléments de liaison qui renferment des surfaces permet d'obtenir une rugosité superficielle d'éléments structuraux en CMC, laquelle permet une meilleure adhérence de couches céramiques.
(DE) Durch die Erzeugung von gezielten Strukturen mittels Stegen, die Flächen einschließen, wird eine Oberflächenrauheit von CMC-Bauteilen erzielt, die zur besseren Anhaftung von keramischen Schichten dient.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)