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1. (WO2018197378) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM WACHSEN EINES EINKRISTALLS

Pub. No.:    WO/2018/197378    International Application No.:    PCT/EP2018/060271
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Tue Apr 24 01:59:59 CEST 2018
IPC: C30B 25/10
C23C 16/00
C30B 25/14
C30B 29/06
C30B 25/08
C30B 13/08
H01J 37/00
Applicants: EEPLASMA GMBH
Inventors: GSCHWANDTNER, Alexander
Title: VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM WACHSEN EINES EINKRISTALLS
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Wachsen eines Einkristalls durch Behandlung eines einen kristallbildenden Bestandteil aufweisenden Prozessgases in einem durch elektromagnetische Wellen angeregten Plasma und Abscheidung des kristallbildenden Bestandteils des Prozessgases auf dem Einkristall, bei dem das Prozessgas über einen ersten Gaseinlass und ein Begleitgas über einen zweiten Gaseinlass derart in eine Plasmakammer eingeleitet werden, dass das Begleitgas um das Prozessgas rotiert, das Prozessgas in dem Plasma in seine Bestandteile zerlegt wird, das zerlegte Prozessgas gemeinsam mit dem Begleitgas in eine Prozesskammer, in der der Einkristall angeordnet ist, geleitet wird, und der kristallbildende Bestandteil des Prozessgases auf dem Einkristall abgeschieden wird. Die Erfindung betrifft ferner eine entsprechende Vorrichtung.