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1. (WO2018197191) VERFAHREN ZUR REINIGUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR DEN ULTRAVIOLETTEN WELLENLÄNGENBEREICH
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Veröff.-Nr.: WO/2018/197191 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/058979
Veröffentlichungsdatum: 01.11.2018 Internationales Anmeldedatum: 09.04.2018
IPC:
B08B 5/00 (2006.01) ,B08B 7/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 27/00 (2006.01)
B Arbeitsverfahren; Transportieren
08
Reinigen
B
Reinigen allgemein; Verhüten des Verschmutzens allgemein
5
Reinigen durch Verfahren, die die Verwendung von Luft- oder Gasströmen einschließen
B Arbeitsverfahren; Transportieren
08
Reinigen
B
Reinigen allgemein; Verhüten des Verschmutzens allgemein
7
Reinigen durch Verfahren, die nicht in einer einzelnen anderen Unterklasse oder einer einzelnen Gruppe dieser Unterklasse vorgesehen sind
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
27
Andere optische Systeme; andere optische Geräte
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
FORCHT, Konstantin; DE
ROGALSKY, Olaf; DE
AMENT, Irene; DE
Vertreter:
WERNER & TEN BRINK - PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Mendelstr. 11 48149 Münster, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 207 030.726.04.2017DE
Titel (EN) PROCESS FOR CLEANING OPTICAL ELEMENTS FOR THE ULTRAVIOLET WAVELENGTH RANGE
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'ÉLÉMENTS OPTIQUES POUR LA GAMME DES LONGUEURS D'ONDES ULTRAVIOLETTES
(DE) VERFAHREN ZUR REINIGUNG VON OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR DEN ULTRAVIOLETTEN WELLENLÄNGENBEREICH
Zusammenfassung:
(EN) Proposed for cleaning optical elements for the ultraviolet wavelength range having at least one metal-containing layer on a surface is a process comprising the steps of: - supplying activated hydrogen to the surface having the metal-containing layer; subsequently supplying inert gas having an H2O volume fraction of below 5 ppm, preferably below 1 ppm, particularly preferably below 0.2 ppm. To this end, an optical system (1) may comprise a housing (122), a means for supply (161) of activated hydrogen, a means for supply (162) of inert gas having an H2O volume fraction of below 5 ppm and a discharge means (163) for pumping gas out of the housing (122).
(FR) L'invention concerne un procédé de nettoyage d'éléments optiques pour la gamme des longueurs d'ondes ultraviolettes, comportant au moins une couche contenant du métal sur une surface, comprenant les étapes suivantes : amenée d'hydrogène activé à la surface présentant la couche contenant du métal ; amenée de gaz inerte présentant une fraction volumique de H2O inférieure à 5 ppm, de préférence inférieure à 1 ppm, de manière particulièrement préférée inférieure à 0,2 ppm. A cet effet, un système optique (1) peut comprendre un boîtier (122), un dispositif d'amenée (161) d'hydrogène activé, un dispositif d'amenée (162) de gaz inerte présentant une fraction volumique de H2O inférieure à 5 ppm et un dispositif d'évacuation (163) pour pomper le gaz hors du boîtier (122).
(DE) Zur Reinigung von optischen Elementen für den ultravioletten Wellenlängenbereich mit mindestens einer metallhaltigen Schicht auf einer Oberfläche wird ein Verfahren vorgeschlagen mit den Schritten: - Zufuhr von aktiviertem Wasserstoff zu der Oberfläche mit metallhaltiger Schicht; - anschließend Zufuhr von Inertgas mit einem H2O-Volumenanteil von unter 5 ppm, bevorzugt unter 1 ppm besonders bevorzugt unter 0,2 ppm. Dazu kann ein optisches System (1) ein Gehäuse (122), eine Zufuhreinrichtung (161) von aktiviertem Wasserstoff, eine Zufuhreinrichtung (162) von Inertgas mit einem H2O-Volumenanteil von unter 5 ppm und eine Abfuhreinrichtung (163) zum Abpumpen von Gas aus dem Gehäuse (122) aufweisen.
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Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)