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1. WO2018189147 - BESCHICHTUNGSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR REAKTIVEN DAMPFPHASENABSCHEIDUNG UNTER VAKUUM AUF EINEM SUBSTRAT

Veröffentlichungsnummer WO/2018/189147
Veröffentlichungsdatum 18.10.2018
Internationale Veröffentlichungsnummer PCT/EP2018/059106
Internationales Anmeldedatum 10.04.2018
IPC
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
06
gekennzeichnet durch das Beschichtungsmaterial
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
24
Vakuumbedampfen
C23C 14/00 (2006.01)
C23C 14/06 (2006.01)
C23C 14/24 (2006.01)
CPC
C23C 14/0021
C23C 14/06
C23C 14/0694
C23C 14/24
C23C 14/243
C23C 14/541
Anmelder
  • CREAPHYS GMBH [DE/DE]; Niedersedlitzer Str. 75 01257 Dresden, DE
Erfinder
  • DRECHSEL, Jens; DE
Vertreter
  • V. BEZOLD & PARTNER PATENTANWÄLTE - PARTG MBB; Akademiestraße 7 80799 München, DE
Prioritätsdaten
10 2017 003 516.411.04.2017DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) BESCHICHTUNGSVORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR REAKTIVEN DAMPFPHASENABSCHEIDUNG UNTER VAKUUM AUF EINEM SUBSTRAT
(EN) COATING APPARATUS AND METHOD FOR REACTIVE VAPOR PHASE DEPOSITION ON A SUBSTRATE UNDER VACUUM
(FR) DISPOSITIF DE REVÊTEMENT ET PROCÉDÉS PERMETTANT LE DÉPÔT RÉACTIF EN PHASE VAPEUR SOUS VIDE SUR UN SUBSTRAT
Zusammenfassung
(DE)
Eine Beschichtungsvorrichtung (100), die zur reaktiven Dampfphasenabscheidung unter Vakuum auf einem Substrat, insbesondere zur Bildung von Perowskit-Schichten, konfiguriert ist, umfasst eine evakuierbare Vakuumkammer (10), eine Verdampfereinrichtung (20), die zur Bereitstellung von Verdampfungsgut in der Dampfphase eingerichtet ist, und eine Substrathalterung (30), die zur Aufnahme des Substrates eingerichtet ist, wobei in der Vakuumkammer (10) eine temperierbare Innenkammer (40) angeordnet ist, die einen Dampfabschnitt (41) zwischen der Verdampfereinrichtung (20) und der Substrathalterung (30) umgibt und für eine Einstellung einer Innenkammer-Temperatur gleich oder kleiner 25 °C eingerichtet ist. Die Verdampfereinrichtung (20) weist bevorzugt mindestens eine Wärmetauscher-Verdampferquelle (50) auf, die über einen Temperierungsmittel-Kreislauf (70) mit einem Temperierungsmittel-Reservoir (71) verbunden ist. Es werden auch Verfahren zur Beschichtung eines Substrats mittels der Beschichtungsvorrichtung (100) beschrieben.
(EN)
The invention relates to a coating apparatus (100), which is configured for reactive vapor phase deposition on a substrate under vacuum, in particular for forming perowskite layers, which comprises an evacuable vacuum chamber (10), an evaporation device (20) which is configured to produce evaporation material in the vapor phase, and a substrate holder (30) which is configured to receive the substrate, wherein in the vacuum chamber (10) there is arranged a temperature-controllable inner chamber (14), which surrounds a vapor section (41) between the evaporator device (20) and the substrate holder (30) and is configured to set an inner chamber temperature equal to or less than 25° C. The evaporation device (20) preferably has at least one heat exchanger evaporator source (50), which is connected via a temperature control medium circuit (70) to a temperature control medium reservoir (71). The invention also relates to methods for coating a substrate by means of the coating apparatus (100).
(FR)
L'invention concerne un dispositif de revêtement (100) qui est configuré pour le dépôt réactif en phase vapeur sous vide sur un substrat, en particulier pour la formation de couches de pérovskite, et qui comprend une chambre à vide (10) dans laquelle le vide peut être créé, un système d'évaporation (20) qui est conçu pour produire un évaporat en phase vapeur, et un support de substrat (30) qui est conçu pour recevoir le substrat, une chambre interne thermorégulable (40) entourant une section de vapeur (41) entre le système d'évaporation (20) et le support de substrat (30), et conçue pour réguler la température de la chambre interne à une température inférieure ou égale à 25 °C, étant disposée dans la chambre à vide (10). Le système d'évaporation (20) présente de préférence au moins une source d'évaporation à échangeur de chaleur (50), qui est reliée à un réservoir à fluide de thermorégulation (71) par l'intermédiaire d'un circuit de fluide de thermorégulation (70). L'invention concerne également des procédés pour le revêtement d'un substrat au moyen du dispositif de revêtement (100).
Auch veröffentlicht als
EP2018717332
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