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1. WO2018188876 - WELLENFRONTKORREKTURELEMENT ZUR VERWENDUNG IN EINEM OPTISCHEN SYSTEM

Veröffentlichungsnummer WO/2018/188876
Veröffentlichungsdatum 18.10.2018
Internationale Veröffentlichungsnummer PCT/EP2018/056353
Internationales Anmeldedatum 14.03.2018
IPC
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
26
Optische Vorrichtungen oder Anordnungen mit beweglichen oder verformbaren optischen Elementen zum Steuern der Intensität, Farbe, Phase, Polarisation oder Richtung von Licht, z.B. Schalten, Austasten, Modulieren
06
zum Steuern der Phase von Licht
G03F 7/20 (2006.01)
G02B 26/06 (2006.01)
CPC
G02B 26/06
G03F 7/70241
G03F 7/70266
G03F 7/70316
G03F 7/70891
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
  • HUBER, Peter [DE/DE]; DE (US)
Erfinder
  • HUBER, Peter; DE
Vertreter
  • FRANK, Hartmut; DE
Prioritätsdaten
10 2017 206 256.811.04.2017DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) WELLENFRONTKORREKTURELEMENT ZUR VERWENDUNG IN EINEM OPTISCHEN SYSTEM
(EN) WAVEFRONT CORRECTION ELEMENT FOR USE IN AN OPTICAL SYSTEM
(FR) ÉLÉMENT DE CORRECTION DE FRONT D'ONDE DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS UN SYSTÈME OPTIQUE
Zusammenfassung
(DE)
Die Erfindung betrifft ein Wellenfrontkorrekturelement zur Verwendung in einem optischen System, insbesondere in einem optischen System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einem Substrat (220, 230), einer auf dem Substrat (220, 230) vorgesehenen Anordnung von elektrisch leitenden Leiterbahnen (222, 232), wobei eine Wellenfront von auf das Wellenfrontkorrekturelement auftreffender elektromagnetischer Strahlung durch elektrische Ansteuerung der Leiterbahnen (222, 232) manipulierbar ist, und einer Isolierschicht (221, 231), welche die Leiterbahnen gegeneinander elektrisch isoliert, wobei die Isolierschicht (221, 231) erste Bereiche und zweite Bereiche aufweist, wobei die elektrische Durchbruchsfestigkeit der Isolierschicht (221, 231) gegen einen Durchbruch elektrischer Ladung durch die Isolierschicht (221, 231) hindurch bis zu der Anordnung von Leiterbahnen (222, 232) in den zweiten Bereichen um wenigstens einen Faktor zwei kleiner ist als in den ersten Bereichen.
(EN)
The invention relates to a wavefront correction element for use in an optical system, in particular in an optical system of a microlithographic projection lighting system, comprising a substrate (220, 230), an assembly of electrically conductive conductor tracks (222, 232) provided on the substrate (220, 230), wherein a wavefront of electromagnetic radiation incident on the wavefront correction element can be manipulated by electrically actuating the conductor tracks (222, 232). The insulating layer (221, 231) has first regions and second regions, and the electric breakdown strength of the insulating layer (221, 231) against the penetration of an electric charge through the insulating layer (221, 231) to the assembly of conductor tracks (222, 232) is lower in the second regions than in the first regions at least by a factor of two.
(FR)
L’invention concerne un élément de correction de front d’onde destiné à être utilisé dans un système optique, en particulier dans un système optique d’une installation d’exposition pour la microlithographie par projection, comprenant un substrat (220, 230), un assemblage de pistes électriquement conductrices (222, 232)disposées sur le substrat (220, 230), un front d’onde de rayonnement électromagnétique arrivant sur l’élément de correction de front d’onde pouvant etre manipulé par une commande électrique des pistes électriquement conductrices (222, 232), et une couche isolante (221, 231), qui isole électriquement les pistes conductrices les unes par rapport aux autres, la couche isolante (221, 231) comprenant des premières zones et des deuxièmes zones, la résistance à la rupture électrique de la couche isolante (221, 231) contre une rupture d’une charge électrique à travers la couche isolante (221, 231) jusqu’à l’assemblage de pistes électriquement conductrices (222, 232) dans les deuxièmes zones étant deux fois plus faible que celle dans les premières zones.
Auch veröffentlicht als
EP2018714166
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