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1. (WO2018185552) PROCESS FOR THE PRODUCTION OF ARTIFICIAL STONE
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Veröff.-Nr.: WO/2018/185552 Internationale Anmeldenummer PCT/IB2018/000413
Veröffentlichungsdatum: 11.10.2018 Internationales Anmeldedatum: 25.03.2018
IPC:
C04B 26/32 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
04
Zemente; Beton; Kunststein; keramische Massen; feuerfeste Massen
B
Kalk; Magnesia; Schlacke; Zemente; Massen hieraus z.B. Mörtel, Beton oder ähnliche Baumaterialien; künstliche Steine; keramische Massen; feuerfeste Massen; Behandlung von Naturstein
26
Zusammensetzungen von Mörtel, Beton oder Kunststein, die nur organische Bindemittel enthalten
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Verbindungen, die eine oder mehrere Kohlenstoff- Metall- oder Kohlenstoff-Silicium-Bindung(en) aufweisen
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Silicium enthaltend
Anmelder:
N-TEC GMBH [DE/DE]; Siemensstrasse 13 84051 Essenbach Altheim, DE
COSENTINO RESEARCH & DEVELOPMENT S.L. [ES/ES]; Carretera A-334, Baza-Huércal-Overa Km 59 04850 Cantoria, Almería, ES
Erfinder:
INTERWIES, Jan; DE
Vertreter:
MAY, Andrew; DE
Prioritätsdaten:
10 2017 107 591.707.04.2017DE
Titel (EN) PROCESS FOR THE PRODUCTION OF ARTIFICIAL STONE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PIERRE ARTIFICIELLE
(DE) PROCESS FOR THE PRODUCTION OF ARTIFICIAL STONE
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a method for manufacturing artificial stone of a polymeric resin and an inorganic filler, wherein the one or a plurality silicon compounds are added to the mass of polymeric resin and inorganic filler, which mass is then placed in a mould and is cured.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication de pierre artificielle constituée d'une résine polymère et d'une charge inorganique, un composé de silicium ou une pluralité de composés de silicium étant ajoutés à la masse de résine polymère et à la charge inorganique, ladite masse est ensuite placée dans un moule et est durcie.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Englisch (EN)
Anmeldesprache: Englisch (EN)