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1. (WO2018181713) PRODUCTION METHOD FOR SILICA PARTICLE LIQUID DISPERSION
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Veröff.-Nr.: WO/2018/181713 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2018/013240
Veröffentlichungsdatum: 04.10.2018 Internationales Anmeldedatum: 29.03.2018
IPC:
C01B 33/18 (2006.01) ,C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
01
Anorganische Chemie
B
Nichtmetallische Elemente; deren Verbindungen
33
Silicium; dessen Verbindungen
113
Siliciumoxide; deren Hydrate
12
Siliciumdioxid; dessen Hydrate, z.B. lepidoide Kieselsäure
18
Herstellung von fein verteiltem Siliciumdioxid weder in Sol- noch in Gelform; dessen Nachbehandlung
C Chemie; Hüttenwesen
09
Farbstoffe; Anstrichstoffe; Polituren; Naturharze; Klebstoffe; Zusammensetzungen, soweit nicht anderweitig vorgesehen; Anwendungen von Stoffen, soweit nicht anderweitig vorgesehen
K
Materialien für Anwendungen, soweit nicht anderweitig vorgesehen; Verwendung von Materialien, soweit nicht anderweitig vorgesehen
3
Materialien, soweit nicht anderweitig vorgesehen
14
Gleitschutzmittel; Schleifmittel
B Arbeitsverfahren; Transportieren
24
Schleifen; Polieren
B
Maschinen, Einrichtungen oder Verfahren zum Schleifen oder Polieren; Ab- oder Herrichten der Arbeitsflächen von Schleifwerkzeugen; Zuführen von Schleif-, Polier- oder Läppmitteln
37
Maschinen oder Einrichtungen zum Läppen; Zubehör hierfür
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
02
Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen oder Teilen davon
04
Bauelemente mit mindestens einer Potenzialsprung-Sperrschicht oder Oberflächensperrschicht, z.B. PN-Übergang, Verarmungsschicht, Anreicherungsschicht
18
Bauelemente mit Halbleiterkörpern aus Elementen der Gruppe IV des Periodensystems oder AIIIBV-Verbindungen mit oder ohne Fremdstoffe, z.B. Dotierungsmaterialien
30
Behandlung von Halbleiterkörpern unter Verwendung von Verfahren oder Vorrichtungen, soweit nicht von H01L21/20-H01L21/26152
302
zur Änderung der physikalischen Oberflächenbeschaffenheit oder zur Änderung der Form, z.B. Ätzen, Polieren, Sägen, Schneiden
304
Mechanische Behandlung, z.B. Schleifen, Polieren, Sägen, Schneiden
Anmelder:
日揮触媒化成株式会社 JGC CATALYSTS AND CHEMICALS LTD. [JP/JP]; 神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 580 Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki City, Kanagawa 2120013, JP
Erfinder:
江上 美紀 EGAMI Miki; JP
熊澤 光章 KUMAZAWA Mitsuaki; JP
荒金 宏忠 ARAKANE Hirotada; JP
村口 良 MURAGUCHI Ryo; JP
平井 俊晴 HIRAI Toshiharu; JP
Vertreter:
▲高▼津 一也 TAKATSU Kazuya; JP
Prioritätsdaten:
2017-07150231.03.2017JP
Titel (EN) PRODUCTION METHOD FOR SILICA PARTICLE LIQUID DISPERSION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UNE DISPERSION LIQUIDE DE PARTICULES DE SILICE
(JA) シリカ粒子分散液の製造方法
Zusammenfassung:
(EN) [Problem] To efficiently produce silica particles by inhibiting production of unreacted materials. [Solution] This silica particle liquid dispersion production method comprises simultaneously adding, to liquid I containing silica seed particles, liquid A containing a silane alkoxide and liquid B containing an alkali catalyst and water, to grow the silica seed particles and thereby produce silica particles, wherein the change rate of the molar ratio of the alkali catalyst to the silica component, with respect to the initial value thereof, in the reaction system during a period from the start to end of the addition, is 0.90-1.10, and the change rate of the molar ratio of the water to the silica component, with respect to the initial value thereof, in the reaction system during a period from the start to end of the addition, is 0.90-1.10.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de produire d’une manière efficace des particules de silice en inhibant la production de matériaux n’ayant pas réagi. La solution selon l’invention porte sur un procédé de production d’une dispersion liquide de particules de silice, consistant à ajouter simultanément, au liquide (I) contenant des particules semences de silice, un liquide (A) contenant un alcoxyde de silane et un liquide (B) contenant un catalyseur alcalin et de l’eau, pour faire croître les particules semences de silice et produire ainsi des particules de silice, où le niveau de changement du rapport molaire du catalyseur alcalin au constituant de silice, par rapport à sa valeur initiale, dans le système réactionnel sur une durée depuis le début jusqu’à la fin de l’addition, est de 0,90 à 1,10, et le niveau de changement du rapport molaire de l’eau au constituant de silice, par rapport à sa valeur initiale, dans le système réactionnel sur une durée depuis le début jusqu’à la fin de l’addition, est de 0,90 à 1,10.
(JA) 【課題】未反応物の生成を抑制して、効率よくシリカ粒子を製造すること。 【解決手段】シリカ種粒子を含有する液Iに対して、シランアルコキシドを含有する液Aと、アルカリ触媒及び水を含有する液Bとを同時に添加することにより、シリカ種粒子を成長させてシリカ粒子を製造するシリカ粒子分散液の製造方法であって、添加開始から終了までの期間の反応系におけるシリカ成分に対するアルカリ触媒のモル比の初期値に対する変化率が、0.90~1.10であり、添加開始から終了までの期間の反応系におけるシリカ成分に対する水のモル比の初期値に対する変化率が、0.90~1.10であるシリカ粒子分散液の製造方法である。
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)