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1. (WO2018172211) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM HERABSETZEN DES H2O-PARTIALDRUCKS IN EINER OVPD-BESCHICHTUNGSEINRICHTUNG

Pub. No.:    WO/2018/172211    International Application No.:    PCT/EP2018/056679
Publication Date: Fri Sep 28 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Mar 17 00:59:59 CET 2018
IPC: C23C 14/12
C23C 14/24
C23C 14/56
Applicants: AIXTRON SE
Inventors: GEORGI, Alexander
Title: VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM HERABSETZEN DES H2O-PARTIALDRUCKS IN EINER OVPD-BESCHICHTUNGSEINRICHTUNG
Abstract:
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden von Schichten aus einem organischen Material auf einem Substrat (13), mit einem eine Heizeinrichtung (31) aufweisenden in einem Reaktorgehäuse (1) angeordneten Gaseinlassorgan (7), einem Dampferzeuger (30), mit dem ein organischer Ausgangsstoff in die Dampfform bringbar ist und der mit einer Zuleitung (8) mit dem Gaseinlassorgan (7) verbunden ist, durch welche der erzeugte Dampf und ein in den Dampferzeuger (30) eingespeistes Inertgas in das Gaseinlassorgan (7) eingespeist wird, und mit einem eine Kühleinrichtung (32) aufweisenden, im Reaktorgehäuse (1) angeordneten Substrathalter (14) zur Auflage des Substrates (13). Es sind eine Kühlzone (20, 28) und Mittel (24, 29) vorgesehen, mit denen die Kühlzone (20, 28) auf eine Temperatur unter 200 K abkühlbar ist, wobei die Kühlzone von einem eine gekühlte Oberfläche aufweisendes Kühlpaneel (20) ausgebildet ist, das zum Herabsetzen des Partialdrucks von Wasser von einer Inertgas-Atmosphäre von mindestens 0,1 mbar umgeben ist.