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1. (WO2018172036) METROLOGIE-TARGET

Pub. No.:    WO/2018/172036    International Application No.:    PCT/EP2018/055065
Publication Date: Fri Sep 28 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Mar 02 00:59:59 CET 2018
IPC: G03F 7/20
G03F 1/42
G03F 9/00
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
STIEPAN, Hans-Michael
Inventors: STIEPAN, Hans-Michael
Title: METROLOGIE-TARGET
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Metrologie-Target. Weiter betrifft die Erfindung auch ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Charakterisierung eines strukturierten Elements in Form eines Wafers, einer Maske oder eines CGH. Gemäß einem Aspekt weist ein Metrologie-Target eine periodische oder quasi-periodische Struktur auf, wobei diese Struktur durch eine Mehrzahl von Parametern charakterisiert ist, wobei wenigstens einer dieser Parameter örtlich monoton variiert, wobei die maximale Größe dieser Variation über eine Distanz von 5μm weniger als 10% beträgt, wobei das Metrologie-Target wenigstens eine Nutzstruktur und wenigstens eine Hilfsstruktur aufweist, wobei die Hilfsstruktur hinsichtlich des örtlich monoton variierenden Parameters sukzessive in die Nutzstruktur übergeht.