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1. (WO2018163861) Cu-Ni ALLOY SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
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Veröff.-Nr.: WO/2018/163861 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2018/006685
Veröffentlichungsdatum: 13.09.2018 Internationales Anmeldedatum: 23.02.2018
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,C22C 9/06 (2006.01) ,C22C 19/03 (2006.01) ,C22F 1/00 (2006.01) ,C22F 1/10 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
34
durch Aufstäuben
C Chemie; Hüttenwesen
22
Metallhüttenwesen; Eisen- oder Nichteisenlegierungen; Behandlung von Legierungen oder von Nichteisenmetallen
C
Legierungen
9
Legierungen auf der Basis von Kupfer
06
mit Nickel oder Cobalt als nächst wesentlichem Bestandteil
C Chemie; Hüttenwesen
22
Metallhüttenwesen; Eisen- oder Nichteisenlegierungen; Behandlung von Legierungen oder von Nichteisenmetallen
C
Legierungen
19
Legierungen auf der Basis von Nickel oder Cobalt
03
auf der Basis von Nickel
C Chemie; Hüttenwesen
22
Metallhüttenwesen; Eisen- oder Nichteisenlegierungen; Behandlung von Legierungen oder von Nichteisenmetallen
F
Verändern der physikalischen Struktur von Nichteisenmetallen oder Nichteisenlegierungen
1
Verändern der physikalischen Struktur von Nichteisenmetallen oder Legierungen durch Wärmebehandlung oder durch Warm- oder Kaltverformung
C Chemie; Hüttenwesen
22
Metallhüttenwesen; Eisen- oder Nichteisenlegierungen; Behandlung von Legierungen oder von Nichteisenmetallen
F
Verändern der physikalischen Struktur von Nichteisenmetallen oder Nichteisenlegierungen
1
Verändern der physikalischen Struktur von Nichteisenmetallen oder Legierungen durch Wärmebehandlung oder durch Warm- oder Kaltverformung
10
von Nickel, Cobalt oder deren Legierungen
Anmelder:
三菱マテリアル株式会社 MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目3番2号 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117, JP
Erfinder:
小見山 昌三 KOMIYAMA Shozo; JP
Vertreter:
松沼 泰史 MATSUNUMA Yasushi; JP
寺本 光生 TERAMOTO Mitsuo; JP
細川 文広 HOSOKAWA Fumihiro; JP
大浪 一徳 ONAMI Kazunori; JP
Prioritätsdaten:
2017-04216206.03.2017JP
2017-24110315.12.2017JP
Titel (EN) Cu-Ni ALLOY SPUTTERING TARGET AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION EN ALLIAGE Cu-Ni ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) Cu-Ni合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
Zusammenfassung:
(EN) This Cu-Ni alloy sputtering target has a composition such that: Ni is contained in the range of 16 mass% to 55 mass%; the hydrogen content is less than 5 mass ppm, the oxygen content is 500 mass ppm or less, and the carbon content is 500 mass ppm or less; and the balance is Cu and unavoidable impurities. The number of voids with a maximum diameter of at least 2 µm is not more than 1 per 1 mm2 region in the sputtering surface.
(FR) Cette cible de pulvérisation en alliage Cu-Ni a une composition telle que : Ni est contenu dans la plage de 16 % en masse à 55 % en masse; la teneur en hydrogène est inférieure à 5 ppm en masse, la teneur en oxygène est de 500 ppm en masse ou moins, et la teneur en carbone est de 500 ppm en masse ou moins; et le reste est du Cu et des impuretés inévitables. Le nombre de vides ayant un diamètre maximal supérieur ou égal à 2 µm est inférieur ou égal à 1 par zone de 1 mm2 dans la surface de pulvérisation.
(JA) このCu-Ni合金スパッタリングターゲットは、Niを16質量%以上55質量%以下の範囲で含有し、水素の含有量が5質量ppm未満、酸素の含有量が500質量ppm以下、炭素の含有量が500質量ppm以下であり、残部がCuおよび不可避不純物からなる組成を有し、最大径が2μm以上のボイドの数が、スパッタ面内の1mmの領域あたり1個以下である。
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)