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1. (WO2018159364) LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD
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Veröff.-Nr.: WO/2018/159364 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2018/005792
Veröffentlichungsdatum: 07.09.2018 Internationales Anmeldedatum: 19.02.2018
IPC:
B41N 1/14 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/033 (2006.01)
B Arbeitsverfahren; Transportieren
41
Drucken; Liniermaschinen; Schreibmaschinen; Stempel
N
Druckplatten oder -folien; Werkstoffe für Oberflächen, die in Druckmaschinen zum Bedrucken, Färben, Befeuchten oder dgl. verwendet werden; Vorbereiten solcher Oberflächen für den Gebrauch oder deren Erhaltung
1
Druckplatten oder -folien; Werkstoffe dafür
12
nichtmetallisch, anders als Stein
14
Lithografische Flachdruckfolien
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
004
Lichtempfindliche Materialien
04
Chromate
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
004
Lichtempfindliche Materialien
027
Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung, z.B. Ethylenverbindungen
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
004
Lichtempfindliche Materialien
027
Nicht-makromolekulare fotopolymerisierbare Verbindungen mit Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung, z.B. Ethylenverbindungen
032
mit Bindemitteln
033
mit Polymeren als Bindemittel, erhalten durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind, z.B. Vinylpolymere
Anmelder:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Erfinder:
園川 浩二 SONOKAWA, Koji; JP
Vertreter:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Prioritätsdaten:
2017-03721628.02.2017JP
Titel (EN) LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR, METHOD FOR MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD
(FR) PLAQUE ORIGINALE POUR PLAQUE D’IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE D’IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ D’IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
(JA) 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法、及び、平版印刷方法
Zusammenfassung:
(EN) Provided are: a lithographic printing plate precursor having an image-forming layer on a support, the image-forming layer containing an infrared absorbing agent, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and polymer particles having an active hydrogen group; a method for manufacturing a lithographic printing plate using the lithographic printing plate precursor; and a lithographic printing method using the lithographic printing plate. A: The polymerizable compound includes a polymerizable compound containing at least one blocked isocyanate group. B: The image-forming layer further includes a crosslinking agent containing at least two blocked isocyanate groups.
(FR) L’invention concerne une plaque originale pour plaque d’impression lithographique qui possède une couche de formation d’image contenant sur un support, un agent d’absorption des rayons infrarouges, un initiateur de polymérisation, un composé polymérisable, et des particules polymère possédant un groupe hydrogène actif, et qui satisfait la condition (A) et/ou la condition (B). L’invention concerne également un procédé de fabrication de plaque d’impression lithographique mettant en œuvre cette plaque originale pour plaque d’impression lithographique, et un procédé d’impression lithographique mettant en œuvre ce procédé de fabrication de plaque d’impression lithographique. (A) : Ledit composé polymérisable inclut un composé polymérisable comprenant au moins un groupe isocyanate séquencé. (B) : Ladite couche de formation d’image contient également un agent de réticulation comprenant au moins deux groupes isocyanate séquencé.
(JA) 支持体上に、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及び活性水素基を有するポリマー粒子、を含む画像形成層を有し、下記A及びBの少なくとも一方を満たす 平版印刷版原版、これを用いた平版印刷版の製版方法、及び、これを用いた平版印刷方法。 A:上記重合性化合物が、ブロック化イソシアネート基を少なくとも1つ含有する重合性化合物を含む。 B:上記画像形成層が、ブロック化イソシアネート基を少なくとも2つ含有する架橋剤、を更に含む。
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)