Einige Inhalte dieser Anwendung sind momentan nicht verfügbar.
Wenn diese Situation weiterhin besteht, kontaktieren Sie uns bitte unterFeedback&Kontakt
1. (WO2018158464) ANTIREFLEX-BESCHICHTUNG MIT STABILER REFLEKTIVITÄT UND FARBE UNTER WINKEL UND UNTER ABRASION
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten    Einwendung einreichen

Veröff.-Nr.: WO/2018/158464 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/055334
Veröffentlichungsdatum: 07.09.2018 Internationales Anmeldedatum: 05.03.2018
IPC:
C03C 17/34 (2006.01) ,G02B 1/115 (2015.01) ,G02B 1/14 (2015.01)
C Chemie; Hüttenwesen
03
Glas; Mineral- oder Schlackenwolle
C
Chemische Zusammensetzungen für Gläser, Glasuren oder Emails; Oberflächenbehandlung von Glas; Oberflächenbehandlung von Fasern oder Fäden aus Glas, Mineralien oder Schlacken; Verbinden von Glas mit Glas oder anderen Stoffen
17
Oberflächenbehandlung von Glas, z.B. entglastem Glas, außer Fasern oder Filamenten aus Glas, durch Überziehen
34
mit wenigstens zwei Überzügen, die verschiedene Zusammensetzungen haben
[IPC code unknown for G02B 1/115][IPC code unknown for G02B 1/14]
Anmelder:
SCHOTT AG [DE/DE]; Hattenbergstrasse 10 55122 Mainz, DE
Erfinder:
APITZ, Dirk; CH
HENN, Christian; DE
BRAUNECK, Ulf; DE
BOURQUIN, Sébastien; CH
Vertreter:
BLUMBACH & ZINNGREBE; Alexandrastrasse 5 65187 Wiesbaden, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 104 523.603.03.2017DE
Titel (EN) ANTIREFLECTION COATING WITH A STABLE REFLECTIVITY AND COLOUR UNDER DIFFERENT ANGLES AND UNDER ABRASION
(FR) REVÊTEMENT ANTIREFLET PRÉSENTANT UNE RÉFLECTIVITÉ ET UNE COULEUR STABLES À UN CERTAIN ANGLE ET SOUS L’EFFET DE L’ABRASION
(DE) ANTIREFLEX-BESCHICHTUNG MIT STABILER REFLEKTIVITÄT UND FARBE UNTER WINKEL UND UNTER ABRASION
Zusammenfassung:
(EN) The object of the invention lies in providing a mechanically enduring antireflection system. To this end, a transparent element (1) is provided, comprising a transparent substrate (3) and, on this substrate (1), a multilayer antireflection coating (5) which comprises at least four layers, wherein layers with a high refractive index (51, 53) alternate with layers (50, 52, 54) with a lower refractive index, and wherein the layers (51, 53) with a higher refractive index have a greater hardness than the layers (50, 52, 54) with a lower refractive index and wherein the uppermost layer (60) of the multilayer antireflection coating (5) is a layer with a lower refractive index and wherein the layers (51-54), given the refractive indices, are selected in respect of their thickness in such a way that, in the case of a reduction of the layer thickness of the uppermost layer (60) by 10% or by 10 nanometres, depending on which of these two cases yields the lower remaining layer thickness, at least one of the following features applies: – the colour of the residual reflection at an angle of incidence of 0° in the case of a reduced layer thickness differs in the CIE xyz colour system from the colour at an angle of incidence of 0° with a non-reduced layer thickness of the uppermost layer (54) by no more than ∆x = 0.05, ∆y = 0.05, preferably by no more than ∆x = 0.03, ∆y = 0.03, particularly preferably by no more than ∆x = 0.02, ∆y = 0.02, – the photopic reflectivity at an angle of incidence of 0° in the case of a reduced layer thickness differs from the photopic reflectivity at an angle of incidence of 0° in the case of a non-reduced layer thickness by no more than ∆R_ph = 1.5%.
(FR) L’invention vise à proposer un système antireflet mécaniquement solide. À cet effet, un élément transparent (1) comprend un substrat transparent (3) et sur ledit substrat (1) un revêtement antireflet multicouche (5) qui comprend au moins quatre couches, des couches présentant un indice de réfraction élevé (51, 53) alternant avec des couches présentant un faible indice de réfraction (50, 52, 54), les couches présentant un indice de réfraction élevée (51, 53) présentant une dureté plus élevée que celle des couches présentant un faible indice de réfraction (50, 52, 54), et la couche supérieure (60) du revêtement antireflet multicouche (5) étant une couche présentant un faible indice de réfraction. Les couches (51-54) sont choisies quant à leur épaisseur pour un indice de réfraction donné de telle manière que pour une réduction de l’épaisseur de la couche supérieure (60) de 10 % ou de 10 nanomètres, selon lequel de ces deux cas donne l’épaisseur de couche restante la plus faible, s’applique au moins une des caractéristiques suivantes : - la couleur de la réflexion résiduelle à un angle d’incidence de 0° pour une épaisseur réduite ne s’écarte pas de plus de Δx=0.05, Δy=0.05, de préférence pas de plus de Δx=0.02, Δy=0.02, particulièrement de préférence pas de plus de Δx=0.02, Δy=0.02, de la couleur à un angle d’incidence de la lumière de 0° pour une épaisseur non réduite de la couche supérieure (54) dans l’espace chromatique CIE XYZ, - la réflectivité diurne à un angle d’incidence de 0° pour une épaisseur de couche réduite ne s’écarte pas de plus de ΔR_ph=1.5 % de la réflectivité diurne à un angle d’incidence de 0° pour une épaisseur de couche non réduite.
(DE) Ziel der Erfindung ist es, ein mechanisch beständiges Antireflex-System bereit zu stellen. Dazu ist ein transparentes Element (1) vorgesehen, umfassend ein transparentes Substrat (3) und auf diesem Substrat (1) eine mehrlagige Antireflex-Beschichtung (5), welche zumindest vier Lagen umfasst, wobei sich Lagen mit hohem Brechungsindex (51, 53) mit Lagen (50, 52, 54) mit niedrigerem Brechungsindex abwechseln, und wobei die Lagen (51, 53) mit höherem Brechungsindex eine größere Härte als die Lagen (50, 52, 54) mit niedrigerem Brechungsindex aufweisen, und wobei die oberste Lage (60) der mehrlagigen Antireflex-Beschichtung (5) eine Lage mit niedrigerem Brechungsindex ist, und wobei die Lagen (51–54) bei gegebenen Brechungsindizes hinsichtlich ihrer Dicke so ausgewählt sind, dass bei einer Reduktion der Schichtdicke der obersten Lage (60) um 10% oder um 10 Nanometer, je nachdem welcher dieser beiden Fälle die geringere verbleibende Schichtdicke ergibt, zumindest eines der folgenden Merkmale gilt: - die Farbe der Restreflexion unter 0° Einfallswinkel bei verminderter Schichtdicke unterscheidet sich von der Farbe unter 0° Lichteinfallswinkel bei unverminderter Schichtdicke der obersten Lage (54) im CIE xyz-Farbsystem um nicht mehr als Δx=0.05, Δy=0.05, bevorzugt nicht mehr als Δx=0.03, Δy=0.03, besonders bevorzugt nicht mehr als Δx=0.02, Δy=0.02, - die photopische Reflektivität unter 0° Einfallswinkel bei verminderter Schichtdicke unterscheidet sich von der photopischen Reflektivität unter 0° Einfallswinkel bei unverminderter Schichtdicke um nicht mehr als ΔR_ph=1.5%.
front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)