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1. (WO2018153624) LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN
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Veröff.-Nr.: WO/2018/153624 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/052301
Veröffentlichungsdatum: 30.08.2018 Internationales Anmeldedatum: 30.01.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
LIEBAUG, Björn; DE
STICKEL, Franz-Josef; DE
HOFMANN, Jürgen; DE
DÜRR, Dietmar; DE
Vertreter:
HORN KLEIMANN WAITZHOFER PATENTANWÄLTE PARTG MBB; Ganghoferstr. 29a 80339 München, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 203 079.824.02.2017DE
Titel (EN) LITHOGRAPHY MACHINE AND METHOD
(FR) INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE ET PROCÉDÉ
(DE) LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a lithography machine (100B) comprising an optical element (202), an interface (204) coupled to said optical element (202), and a component (208) which is separate from the interface (204) and directly connected, form-fittingly and/or force-fittingly, to the optical element (202), said optical element (202) comprising an engaging section (210) and the component (208) having a counter engaging section (232) which is configured to engage with said engaging section (210) so as to connect the component (208) form-fittingly and/or force-fittingly to the optical element (202).
(FR) L’invention concerne une installation de lithographie (100B), comprenant un élément optique (202), une interface (204) qui est accouplée à l’élément optique (202), et un composant (208) distinct de l’interface (204) et relié à l’élément optique (202) directement par complémentarité de forme et/ou à force, l’élément optique (202) présentant une section d’emboîtement (210) et l’élément (208) présentant une section d’emboîtement homologue (32) qui est conçue pour venir s’emboîter dans la section d’emboîtement (210) afin d’assembler l’élément (208) à l’élément optique (202) par complémentarité de forme et/ou à force.
(DE) Eine Lithographieanlage (100B), aufweisend ein optisches Element (202), eine Schnittstelle (204), die mit dem optischen Element (202) gekoppelt ist, und ein von der Schnittstelle (204) getrenntes Bauteil (208), das unmittelbar formschlüssig und/oder kraftschlüssig mit dem optischen Element (202) verbunden ist, wobei das optische Element (202) einen Eingriffsabschnitt (210) und das Bauteil (208) einen Gegeneingriffsabschnitt (232) aufweist, der dazu eingerichtet ist, in den Eingriffsabschnitt (210) einzugreifen, um das Bauteil (208) formschlüssig und/oder kraftschlüssig mit dem optischen Element (202) zu verbinden.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)