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1. (WO2018145907) DIREKT-STRUKTURIERBARE FORMULIERUNGEN AUF DER BASIS VON METALLOXID-PREKURSOREN ZUR HERSTELLUNG OXIDISCHER SCHICHTEN
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Veröff.-Nr.: WO/2018/145907 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/051798
Veröffentlichungsdatum: 16.08.2018 Internationales Anmeldedatum: 25.01.2018
IPC:
C09D 1/00 (2006.01) ,C23C 18/14 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
09
Farbstoffe; Anstrichstoffe; Polituren; Naturharze; Klebstoffe; Zusammensetzungen, soweit nicht anderweitig vorgesehen; Anwendungen von Stoffen, soweit nicht anderweitig vorgesehen
D
Überzugsmittel, z.B. Anstrichstoffe, Firnisse oder Lacke; Spachtelmassen; Chemische Anstrich- oder Tinten-Entferner; Tinten; Korrekturflüssigkeiten; Holzbeizen; Pasten oder Feststoffe zum Färben oder Drucken; Verwendung von Materialien zu diesem Zweck
1
Überzugsmittel, z.B. Anstrichstoffe, Firnisse oder Lacke, auf der Basis anorganischer Stoffe
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
18
Chemisches Beschichten durch Zersetzen entweder flüssiger Verbindungen oder der Lösungen der den Überzug bildenden Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug; Kontaktbeschichten
14
Zersetzung durch Bestrahlung, z.B. durch Fotolyse, durch Teilchenstrahlung
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
004
Lichtempfindliche Materialien
04
Chromate
Anmelder: EVONIK DEGUSSA GMBH[DE/DE]; Rellinghauser Straße 1-11 45128 Essen, DE
Erfinder: MERKULOV, Alexey; DE
BRENDT, Jochen; DE
KÖHLING, Jonas; DE
Prioritätsdaten:
17155205.208.02.2017EP
Titel (EN) DIRECT-STRUCTURABLE FORMULATIONS BASED ON METAL OXIDE PRECURSORS FOR PRODUCING OXIDIC LAYERS
(FR) FORMULATIONS À STRUCTURATION DIRECTE À BASE DE PRÉCURSEURS D'OXYDE MÉTALLIQUE POUR LA FABRICATION DE COUCHES D'OXYDE
(DE) DIREKT-STRUKTURIERBARE FORMULIERUNGEN AUF DER BASIS VON METALLOXID-PREKURSOREN ZUR HERSTELLUNG OXIDISCHER SCHICHTEN
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to direct-structurable coating compositions comprising a metal oxide precursor, a photoacid generator, and a solvent. The present invention also relates to the use of such a coating composition to produce directly structured metal oxide layers, a method for producing metal oxide layers using such a coating composition, a metal oxide-containing layer produced according to such a method, and the use of such a metal oxide-containing layer to produce electronic components, in particular to produce transistors, diodes, sensors or solar cells.
(FR) La présente invention concerne des compositions de revêtement à structuration directe comprenant un précurseur d'oxyde métallique, un photogénérateur d'acide et un solvant. La présente invention concerne en outre l'utilisation d'une telle composition de revêtement pour la fabrication de couches d'oxyde métallique à structuration directe, un procédé de fabrication de couches d'oxyde métallique à l'aide d'une telle composition de revêtement, une couche contenant de l'oxyde métallique fabriquée par un tel procédé, ainsi que l'utilisation d'une telle couche contenant de l'oxyde métallique pour la fabrication de composants électroniques, en particulier pour la fabrication de transistors, de diodes, de capteurs ou de cellules solaires.
(DE) Gegenstand der vorliegenden Erfindung sind direkt-strukturierbare Beschichtungszusammensetzungen umfassend einen Metalloxid-Prekursor, einen Photosäuregenerator und ein Lösemittel. Die vorliegende Erfindung betrifft weiterhin die Verwendung einer solchen Beschichtungszusammensetzung zur Herstellung direkt-strukturierter metalloxidischer Schichten, ein Verfahren zur Herstellung metalloxidischer Schichten unter Verwendung einer solchen Beschichtungszusammensetzung, eine nach einem solchen Verfahren hergestellte Metalloxid-haltige Schicht, sowie die Verwendung einer solchen Metalloxid-haltigen Schicht zur Herstellung elektronischer Bauteile, insbesondere zur Herstellung von Transistoren, Dioden, Sensoren oder Solarzellen.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)