Einige Inhalte dieser Anwendung sind momentan nicht verfügbar.
Wenn diese Situation weiterhin besteht, kontaktieren Sie uns bitte unterFeedback&Kontakt
1. (WO2018141916) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR EXFOLATION VON MATERIALSCHICHTEN GESCHICHTETEN MATERIALS SOWIE VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG EINER NANOSTRUKTUR MITTELS GASPHASENABSCHEIDUNG HIERZU
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten    Einwendung einreichen

Veröff.-Nr.: WO/2018/141916 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2018/052685
Veröffentlichungsdatum: 09.08.2018 Internationales Anmeldedatum: 02.02.2018
IPC:
C01B 32/19 (2017.01) ,H01L 21/00 (2006.01) ,C23C 16/30 (2006.01)
[IPC code unknown for C01B 32/19]
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16
Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase [chemical vapour deposition = CVD]
22
gekennzeichnet durch das Abscheiden anderer anorganischer Stoffe als metallischer Stoffe
30
Abscheiden von Verbindungen, Gemischen oder festen Lösungen, z.B. von Boriden, Carbiden, Nitriden
Anmelder:
DORN, August [DE/DE]; DE
Erfinder:
DORN, August; DE
Vertreter:
GRAMM, LINS & PARTNER PATENT- UND RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Freundallee 13a 30173 Hannover, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 102 195.703.02.2017DE
10 2017 102 196.503.02.2017DE
Titel (EN) APPARATUS AND METHOD FOR EXFOLIATING MATERIAL LAYERS OF LAYERED MATERIAL AND METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING A NANOSTRUCTURE BY MEANS OF GAS PHASE DEPOSITION FOR THIS PURPOSE
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ D'EXFOLIATION DE COUCHES DE MATÉRIAU EN COUCHES, AINSI QUE PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE PRODUCTION D'UNE NANOSTRUCTURE AU MOYEN D'UN DÉPÔT PHYSIQUE EN PHASE GAZEUSE
(DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR EXFOLATION VON MATERIALSCHICHTEN GESCHICHTETEN MATERIALS SOWIE VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG EINER NANOSTRUKTUR MITTELS GASPHASENABSCHEIDUNG HIERZU
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to an apparatus (10) for exfoliating material layers (22) of layered material (12), particularly for exfoliating graphene from graphite. Said apparatus (10) comprises a first receptacle (14), designed to receive the layered material (12), and a second receptacle (16), designed to receive the material layers (22), the first receptacle (14) and the second receptacle (16) being mounted so as to be movable relative to each other. The invention also relates to a method and an apparatus for producing a nanostructure by way of gas phase deposition, the deposition being controlled by an electric field.
(FR) L'invention concerne un dispositif (10) d'exfoliation de couches (22) de matériau (12) en couches, en particulier pour l'exfoliation de graphène du graphite. Le dispositif (10) comporte un premier logement (14), conçu pour loger le matériau (12) en couches et un deuxième logement (16), conçu pour loger les couches (22) de matériau, le premier logement (14) et le deuxième logement (16) étant montés mobiles l'un par rapport à l'autre. L'invention concerne en outre un procédé et un dispositif de production d'une nanostructure au moyen d'un dépôt physique en phase gazeuse, le dépôt étant commandé par un champ électrique.
(DE) Gezeigt wird eine Vorrichtung (10) zur Exfoliation von Materialschichten (22) geschichteten Materials (12), insbesondere zur Exfoliation von Graphen aus Graphit. Die Vorrichtung (10) umfasst eine erste Aufnahme (14), eingerichtet zur Aufnahme des geschichteten Materials (12) und eine zweite Aufnahme (16), eingerichtet zur Aufnahme der Materialschichten (22), wobei die erste Aufnahme (14) und die zweite Aufnahme (16) relativ zueinander beweglich gelagert sind. Gezeigt wird weiterhin in Verfahren und eine Vorrichtung zur Erzeugung einer Nanostruktur mittels Gasphasenabscheidung, wobei die Abscheidung durch ein elektrisches Feld gesteuert wird.
front page image
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)