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1. (WO2018133969) OPTISCHE ANORDNUNG, INSBESONDERE LITHOGRAPHIESYSTEM
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Veröff.-Nr.: WO/2018/133969 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2017/079074
Veröffentlichungsdatum: 26.07.2018 Internationales Anmeldedatum: 13.11.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G21K 1/06 (2006.01) ,G02B 7/182 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
21
Kernphysik; Kerntechnik
K
Verfahren und Vorrichtungen zur Handhabung von Teilchen oder ionisierender Strahlung, soweit nicht anderweitig vorgesehen; Bestrahlungsvorrichtungen; Gamma- oder Röntgenstrahlmikroskope
1
Anordnungen zur Handhabung von ionisierender Strahlung oder von Teilchen, z.B. Fokussieren oder Moderieren
06
unter Anwendung von Beugung, Brechung oder Reflexion, z.B. Monochromatoren
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
7
Halterungen, Fassungen, Justiereinrichtungen oder lichtdichte Verbindungen für optische Elemente
18
für Prismen; für Spiegel
182
für Spiegel
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
GELLRICH, Bernhard; DE
ZWEERING, Ralf; DE
SEVIOUR, Charles; DE
ERATH, Michael; DE
PROCHNAU, Jens; DE
NEFZI, Marwene; DE
KULITZKI, Viktor; DE
LORENZ, Axel; DE
SCHAFF, Stefan; DE
Vertreter:
KOHLER SCHMID MÖBUS PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Gropiusplatz 10 70563 Stuttgart, DE
Prioritätsdaten:
10 2017 200 635.817.01.2017DE
Titel (EN) OPTICAL ARRANGEMENT, PARTICULARLY A LITHOGRAPHY SYSTEM
(FR) DISPOSITIF OPTIQUE, NOTAMMENT SYSTÈME DE LITHOGRAPHIE
(DE) OPTISCHE ANORDNUNG, INSBESONDERE LITHOGRAPHIESYSTEM
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to an optical arrangement, particularly a lithography system (1), comprising: a movable component, particularly a mirror (3), at least one actuator (4) for moving the component (3), and at least one abutment (6) with an abutment surface (12) for limiting the movement of the component (3). The optical arrangement comprises, on an abutment (6) or on a plurality of abutments, at least two abutment surfaces for limiting the movement of the movable component (3) in the same direction of movement (+X, -X, -Y, +Y), the abutment surfaces being particularly provided for applying to the same side of the movable component (3) and/or the optical arrangement comprising at least one other actuator (9) for moving the abutment (6) in relation to the movable component (3), and at least one distance sensor (13) for determining a distance (A) between an abutment surface (12) of the abutment (6) and the movable component (3). The optical arrangement can also comprise a weight-reduced movable component in the form of a mirror (3).
(FR) L’invention concerne un dispositif optique, en particulier un système de lithographie (1), comprenant : un composant mobile, en particulier un miroir (3), au moins un actionneur (4) destiné à déplacer le composant (3), ainsi qu’au moins une butée (6) pourvue d’une surface de butée (12) servant à limiter le mouvement du composant (3). Le dispositif optique possède au niveau d’une butée (6) ou d’une pluralité de butées au moins deux surfaces de butée servant à limiter le mouvement du composant mobile (3) dans une même direction de mouvement (+X, -X, -Y, +Y), les surfaces de butée étant prévues pour venir en appui du même côté du composant mobile (3) et/ou le dispositif optique comprend au moins un autre actionneur (9) servant à déplacer la butée (6) par rapport au composant mobile (3) ainsi qu’au moins un capteur de distance (13) servant à déterminer la distance (A) entre une surface de butée (12) de la butée (6) et le composant mobile (3). Le dispositif optique peut également comporter un composant mobile de poids réduit se présentant sous la forme d’un miroir (3).
(DE) Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung, insbesondere ein Lithographiesystem (1 ), umfassend: eine bewegliche Komponente, insbesondere einen Spiegel (3), mindestens einen Aktor (4) zur Bewegung der Komponente (3), sowie mindestens einen Anschlag (6) mit einer Anschlagfläche (12) zur Begrenzung der Bewegung der Komponente (3). Die optische Anordnung weist an einem Anschlag (6) oder an mehreren Anschlägen mindestens zwei Anschlagflächen zur Begrenzung der Bewegung der beweglichen Komponente (3) in ein- und derselben Bewegungsrichtung (+X, -X, -Y, +Y) auf, wobei die Anschlagflächen insbesondere zur Anlage an derselben Seite der beweglichen Komponente (3) vorgesehen sind und/oder die optische Anordnung weist mindestens einen weiteren Aktor (9) zur Bewegung des Anschlags (6) relativ zur beweglichen Komponente (3) sowie mindestens einen Abstandssensor (13) zur Bestimmung eines Abstands (A) zwischen einer Anschlagfläche (12) des Anschlags (6) und der beweglichen Komponente (3) auf. Die optische Anordnung kann auch eine gewichtsreduzierte bewegliche Komponente in Form eines Spiegels (3) aufweisen.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)