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1. (WO2018123388) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND METAL-CONTAINING RESIN AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
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Veröff.-Nr.: WO/2018/123388 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2017/042469
Veröffentlichungsdatum: 05.07.2018 Internationales Anmeldedatum: 27.11.2017
IPC:
G03F 7/038 (2006.01) ,C08F 12/14 (2006.01) ,C08G 79/12 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/32 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
004
Lichtempfindliche Materialien
038
makromolekulare Verbindungen, die unlöslich oder unterschiedlich benetzbar gemacht werden
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
F
Makromolekulare Verbindungen, erhalten durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind
12
Homo- oder Mischpolymerisate von Verbindungen, die einen oder mehrere ungesättigte aliphatische Reste aufweisen, von denen jeder nur eine einzige Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindung besitzt und wobei wenigstens einer mit einem endständigen aromatischen carbocyclischen Ring versehen ist
02
Monomere, die nur einen einzigen ungesättigten aliphatischen Rest enthalten
04
die einen einzigen Ring enthalten
14
durch Heteroatome oder Heteroatome enthaltende Gruppen substituiert
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
G
Makromolekulare Verbindungen, anders erhalten als durch Reaktionen, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindungen beteiligt sind
79
Makromolekulare Verbindungen, die durch Reaktionen erhalten werden, die in der Hauptkette des Makromoleküls eine Bindung bilden, die andere Atome als Silicium, Schwefel, Stickstoff, Sauerstoff und Kohlenstoff enthält
12
eine Zinn enthaltende Bindung
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
004
Lichtempfindliche Materialien
04
Chromate
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
26
Verarbeitung von lichtempfindlichen Materialien; Vorrichtungen dafür
30
Bildmäßiges Entfernen mit Hilfe von Flüssigkeiten
32
Flüssigkeitszusammensetzungen dafür, z.B. Entwickler
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
004
Lichtempfindliche Materialien
039
Makromolekulare fotodepolymerisierbare Verbindungen, z.B. positiv arbeitende elektronenempfindliche Fotolacke [Resists]
Anmelder:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
Erfinder:
浅野 裕介 ASANO Yusuke; JP
中川 恭志 NAKAGAWA Hisashi; JP
峯岸 信也 MINEGISHI Shinya; JP
Vertreter:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
Prioritätsdaten:
2016-25689828.12.2016JP
Titel (EN) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD, AND METAL-CONTAINING RESIN AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) COMPOSITION SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, RÉSINE CONTENANT DU MÉTAL ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ASSOCIÉ
(JA) 感放射線性組成物、パターン形成方法並びに金属含有樹脂及びその製造方法
Zusammenfassung:
(EN) The present invention is a radiation-sensitive composition used for extreme UV light or radiation beam exposure, the radiation-sensitive composition containing a first polymer and a solvent, wherein the radiation-sensitive composition is characterized in that: the first polymer has a first structural unit including one or more metal atoms and a carbon atom that is chemically bonded to the metal atom and that does not constitute an unsaturated bond; and at least one of the chemical bonds is a covalent bond. Preferably, all of the chemical bonds are covalent bonds. The metal atom is preferably tin, germanium, lead, or a combination thereof.
(FR) La présente invention concerne une composition sensible au rayonnement utilisée pour une exposition à un rayonnement ultraviolet extrême ou à un faisceau de rayonnement, la composition sensible au rayonnement contenant un premier polymère et un solvant, la composition sensible au rayonnement étant caractérisée en ce que : le premier polymère a une première unité structurale comprenant un ou plusieurs atomes métalliques et un atome de carbone qui est lié chimiquement à l'atome métallique et qui ne constitue pas une liaison insaturée; et au moins une des liaisons chimiques est une liaison covalente. De préférence, toutes les liaisons chimiques sont des liaisons covalentes. L'atome métallique est de préférence l'étain, le germanium, le plomb ou une combinaison de ceux-ci.
(JA) 本発明は、極端紫外線又は電子線露光に用いられ、第1重合体と溶媒とを含有する感放射線性組成物であって、上記第1重合体が、1又は複数の金属原子と、この金属原子に化学結合により結合している炭素原子であって不飽和結合を構成していない炭素原子とを含む第1構造単位を有し、上記化学結合のうちの少なくとも1つが共有結合であることを特徴とする。上記化学結合の全てが共有結合であることが好ましい。上記金属原子は、スズ、ゲルマニウム、鉛又はこれらの組み合わせであることが好ましい。
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Afrikanische regionale Organisation für geistiges Eigentum (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasisches Patentamt (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPA) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Afrikanische Organisation für geistiges Eigentum (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)