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1. (WO2018104250) INTENSITÄTSANPASSUNGSFILTER FÜR DIE EUV - MIKROLITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN SOWIE BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINEM ENTSPRECHENDEN FILTER

Pub. No.:    WO/2018/104250    International Application No.:    PCT/EP2017/081420
Publication Date: Fri Jun 15 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Dec 05 00:59:59 CET 2017
IPC: G03F 7/20
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: ENKISCH, Hartmut
MUELLER, Ulrich
Title: INTENSITÄTSANPASSUNGSFILTER FÜR DIE EUV - MIKROLITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN SOWIE BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINEM ENTSPRECHENDEN FILTER
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optisches Element für ein optisches System, welches mit Arbeitslicht im Wellenlängenspektrum des extrem ultravioletten Lichts oder weicher Röntgenstrahlung arbeitet, insbesondere ein optisches System für die EUV - Mikrolithographie mit einer Absorberschicht (12) für EUV - oder weiche Röntgenstrahlung, die sich entlang einer optisch wirksamen Fläche erstreckt und eine Dicke aufweist, die quer zur optisch wirksamen Fläche definiert ist, wobei die Dicke der Absorberschicht über der optisch wirksamen Fläche variiert sowie einen Spiegel, der durch mindestens eine aufgeraute Fläche des Spiegels gebildet ist, deren Rauheit über der Fläche variiert. Außerdem betrifft die Erfindung ein Beleuchtungssystem für eine EUV - Projektionsbelichtungsanlage, ein Verfahren zur Herstellung eines entsprechenden Intensitätsanpassungsfilters sowie die Verwendung eines entsprechenden Filters.