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1. (WO2018104250) INTENSITÄTSANPASSUNGSFILTER FÜR DIE EUV - MIKROLITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN SOWIE BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINEM ENTSPRECHENDEN FILTER
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TranslationÜbersetzung: Original-->Deutsch
Veröff.-Nr.:    WO/2018/104250    Internationale Anmeldenummer    PCT/EP2017/081420
Veröffentlichungsdatum: 14.06.2018 Internationales Anmeldedatum: 04.12.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Erfinder: ENKISCH, Hartmut; (DE).
MUELLER, Ulrich; (DE)
Vertreter: LANG, Christian; (DE)
Prioritätsdaten:
10 2016 224 113.3 05.12.2016 DE
Titel (DE) INTENSITÄTSANPASSUNGSFILTER FÜR DIE EUV - MIKROLITHOGRAPHIE UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DESSELBEN SOWIE BELEUCHTUNGSSYSTEM MIT EINEM ENTSPRECHENDEN FILTER
(EN) INTENSITY ADAPTATION FILTER FOR EUV MICROLITHOGRAPHY, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND ILLUMINATION SYSTEM HAVING A CORRESPONDING FILTER
(FR) FILTRE D'ADAPTATION DE L'INTENSITÉ POUR LA MICROLITHOGRAPHIE EUV ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION AINSI QUE SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE POURVU D'UN FILTRE CORRESPONDANT
Zusammenfassung: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein optisches Element für ein optisches System, welches mit Arbeitslicht im Wellenlängenspektrum des extrem ultravioletten Lichts oder weicher Röntgenstrahlung arbeitet, insbesondere ein optisches System für die EUV - Mikrolithographie mit einer Absorberschicht (12) für EUV - oder weiche Röntgenstrahlung, die sich entlang einer optisch wirksamen Fläche erstreckt und eine Dicke aufweist, die quer zur optisch wirksamen Fläche definiert ist, wobei die Dicke der Absorberschicht über der optisch wirksamen Fläche variiert sowie einen Spiegel, der durch mindestens eine aufgeraute Fläche des Spiegels gebildet ist, deren Rauheit über der Fläche variiert. Außerdem betrifft die Erfindung ein Beleuchtungssystem für eine EUV - Projektionsbelichtungsanlage, ein Verfahren zur Herstellung eines entsprechenden Intensitätsanpassungsfilters sowie die Verwendung eines entsprechenden Filters.
(EN)The invention relates to an optical element for an optical system that operates with working light in the wavelength spectrum of extreme ultraviolet light or soft x-ray radiation, in particular an optical system for EUV microlithography, having an absorber layer (12) for EUV radiation or soft x-ray radiation, which absorber layer extends along an optically active surface and has a thickness that is defined perpendicularly to the optically active surface, wherein the thickness of the absorber layer varies over the optically active surface, and a mirror, which is formed by at least one roughened surface of the mirror, the roughness of which varies over the surface. The invention further relates to an illumination system for an EUV projection exposure system, to a method for producing a corresponding intensity adaptation filter, and to the use of a corresponding filter.
(FR)L'invention concerne un élément optique pour un système optique, lequel fonctionne à lumière de travail dans le spectre de longueurs d'onde du rayonnement ultraviolet lointain ou à rayons X mous, en particulier pour un système optique pour la microlithographie EUV comportant : une couche absorbante (12) les EUV ou les rayons X mous, laquelle s’étende le long d'une surface optiquement active et laquelle comportent une épaisseur, laquelle est définie transversalement par rapport à la surface optiquement active, l'épaisseur de la couche absorbante variant sur la surface optiquement active ; ainsi qu'un miroir, qui est formé par au moins une surface rugueuse du miroir, dont la rugosité varie sur la surface. En outre, l'invention concerne un système d'éclairage pour une installation d’éclairage par projection EUV, un procédé de fabrication d'un filtre d'adaptation de l'intensité correspondant ainsi que l'utilisation d'un filtre correspondant.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Veröffentlichungssprache: German (DE)
Anmeldesprache: German (DE)