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1. (WO2018104109) VERFAHREN ZUM REPARIEREN VON REFLEKTIVEN OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE

Pub. No.:    WO/2018/104109    International Application No.:    PCT/EP2017/080645
Publication Date: Fri Jun 15 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Nov 29 00:59:59 CET 2017
IPC: G21K 1/06
G03F 7/20
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: MEIER, Robert
KIEREY, Holger
JALICS, Christof
EVA, Eric
WINTER, Ralf
SCHMITTNER, Arno
KUZNETSOV, Alexey
SHKLOVER, Vitaliy
NOTTBOHM, Christoph
MERKEL, Wolfgang
Title: VERFAHREN ZUM REPARIEREN VON REFLEKTIVEN OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE
Abstract:
Es wird ein kostengünstiges Verfahren zum Reparieren von reflektiven optischen Elementen für die EUV-Lithographie vorgeschlagen, die ein Subtrat (61) und eine Beschichtung (62) aufweisen, die bei einer Arbeitswellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 20 nm reflektiert und durch Wasserstoffblasenbildung beschädigt ist. Das Verfahren weist die Schritte Lokalisieren einer Schadstelle (63, 64, 65, 66) in der Beschichtung (62) und Abdecken der Schadstelle (63, 64, 65, 66) mit einem oder mehreren Materialien mit geringer Wasserstoffdurchlässigkeit auf, indem auf die Schadstelle ein Abdeckelement aufgebracht wird, wobei das Abdeckelement mit einer Oberflächenstruktur, einer konvexen oder konkaven Oberfläche oder einer Beschichtung entsprechend der Beschichtung des reflektiven optischen Elements oder einer Kombination davon ausgebildet wird. Das Verfahren ist besonders geeignet für Kollektorspiegel (70) für die EUV-Lithographie. Nach der Reparatur weisen sie Abdeckelemente (71, 72, 73) auf.