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Veröff.-Nr.: WO/2018/103793 Internationale Anmeldenummer PCT/DE2017/101049
Veröffentlichungsdatum: 14.06.2018 Internationales Anmeldedatum: 08.12.2017
IPC:
C25D 7/06 (2006.01) ,C25D 17/00 (2006.01) ,C25D 17/02 (2006.01) ,C25D 21/12 (2006.01) ,C25D 5/02 (2006.01) ,C25D 5/18 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
25
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren; Vorrichtungen dafür
D
Verfahren für die elektrolytische oder elektrophoretische Herstellung von Überzügen; Galvanoplastik; Verbinden von Werkstücken durch Elektrolyse; Vorrichtungen dafür
7
Galvanisieren von bestimmten Gegenständen
06
Drähte; Bänder; Bleche
C Chemie; Hüttenwesen
25
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren; Vorrichtungen dafür
D
Verfahren für die elektrolytische oder elektrophoretische Herstellung von Überzügen; Galvanoplastik; Verbinden von Werkstücken durch Elektrolyse; Vorrichtungen dafür
17
Konstruktionsteile oder deren Zusammenbauten für Zellen zur elektrolytischen Beschichtung
C Chemie; Hüttenwesen
25
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren; Vorrichtungen dafür
D
Verfahren für die elektrolytische oder elektrophoretische Herstellung von Überzügen; Galvanoplastik; Verbinden von Werkstücken durch Elektrolyse; Vorrichtungen dafür
17
Konstruktionsteile oder deren Zusammenbauten für Zellen zur elektrolytischen Beschichtung
02
Behälter; Installationen dafür
C Chemie; Hüttenwesen
25
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren; Vorrichtungen dafür
D
Verfahren für die elektrolytische oder elektrophoretische Herstellung von Überzügen; Galvanoplastik; Verbinden von Werkstücken durch Elektrolyse; Vorrichtungen dafür
21
Verfahren für Betrieb oder Wartung elektrolytischer Bäder
12
Verfahrenssteuerung oder Regelung
C Chemie; Hüttenwesen
25
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren; Vorrichtungen dafür
D
Verfahren für die elektrolytische oder elektrophoretische Herstellung von Überzügen; Galvanoplastik; Verbinden von Werkstücken durch Elektrolyse; Vorrichtungen dafür
5
Besondere Galvanisierverfahren; Vor- oder Nachbehandlung von Werkstücken
02
Selektives Galvanisieren
C Chemie; Hüttenwesen
25
Elektrolytische oder elektrophoretische Verfahren; Vorrichtungen dafür
D
Verfahren für die elektrolytische oder elektrophoretische Herstellung von Überzügen; Galvanoplastik; Verbinden von Werkstücken durch Elektrolyse; Vorrichtungen dafür
5
Besondere Galvanisierverfahren; Vor- oder Nachbehandlung von Werkstücken
18
Galvanisieren mit Hilfe von moduliertem, von pulsierendem oder von Umkehrstrom
Anmelder: RENA TECHNOLOGIES GMBH[DE/DE]; Höhenweg 1 78148 Gütenbach, DE
Erfinder: PASSIG, Michael; DE
SIEBER, Markus; DE
BAY, Norbert; DE
BURSCHIK, John; DE
PYSCH, Damian; DE
DÜMPELFELD, Wolfgang; DE
UIHLEIN, Markus; DE
KÜHNLEIN, Holger; DE
HIRT, Thomas; DE
KETTERER, Andreas; DE
Vertreter: HEYERHOFF GEIGER & PARTNER PATENTANWÄLTE PARTGMBB; Heiligenbreite 52 88662 Überlingen, DE
Prioritätsdaten:
10 2016 124 002.809.12.2016DE
Titel (EN) CONTINUOUS SEPARATION INSTALLATION AND ASSEMBLY FOR SAME
(FR) INSTALLATION DE DÉPÔT EN CONTINU ET ENSEMBLE DESTINÉ À UNE TELLE INSTALLATION
(DE) DURCHLAUFABSCHEIDEANLAGE UND BAUGRUPPE FÜR EINE SOLCHE
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a continuous separation installation (10; 20; 30; 50) for the galvanic deposition of a substance on objects (1), wherein said continuous separation installation (10; 20; 30; 50) comprises contacting devices (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) having at least one electrically conductive contact arm (13; 33a, 33b, 33c, 33d, 53a, 53b, 53c), and wherein the contacting devices (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) are arranged in areas of the continuous separation installation, which are free from an electrolyte (7) used for the galvanic deposition of the substance. The invention also relates to an assembly (60) for a continuous separation installation (50).
(FR) L’invention concerne une installation de dépôt en continu (10; 20; 30; 50) destinée au dépôt galvanostatique d’une substance sur des objets (1), l’installation de dépôt en continu (10; 20; 30; 50) mentionnée présentant des dispositifs de mise en contact électrique (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) dotés d’au moins un bras de contact électroconducteur (13; 33a, 33b, 33c, 33d, 53a, 53b, 53c) et les dispositifs de mise en contact électrique (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) étant disposés dans des zones de l’installation de dépôt en continu, lesquelles sont exemptes d’un électrolyte (7) utilisé pour le dépôt galvanostatique de la substance, ainsi qu’un ensemble (60) destiné à l’installation de dépôt en continu (50).
(DE) Durchlaufabscheideanlage (10; 20; 30; 50) zum galvanischen Abscheiden einer Substanz auf Objekten (1), wobei die genannte Durchlaufabscheideanlage (10; 20; 30; 50) Kontaktiervorrichtungen (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) mit wenigstens einem elektrisch leitfähigen Kontaktarm (13; 33a, 33b, 33c, 33d, 53a, 53b, 53c) aufweist und die Kontaktiervorrichtungen (12; 22a, 22b; 32a, 32b; 52) in Bereichen der Durchlaufabscheideanlage angeordnet sind, welche frei von einem für die galvanische Abscheidung der Substanz verwendeten Elektrolyten (7) sind, sowie Baugruppe (60) für eine Durchlaufabscheideanlage (50).
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)