Suche in nationalen und internationalen Patentsammlungen

1. (WO2018086912) VERFAHREN ZUM BEIDSEITIGEN POLIEREN EINER HALBLEITERSCHEIBE

Pub. No.:    WO/2018/086912    International Application No.:    PCT/EP2017/077571
Publication Date: Fri May 18 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Oct 28 01:59:59 CEST 2017
IPC: B24B 37/08
B24B 37/22
B24B 37/24
B24D 18/00
Applicants: SILTRONIC AG
Inventors: DUTSCHKE, Vladimir
Title: VERFAHREN ZUM BEIDSEITIGEN POLIEREN EINER HALBLEITERSCHEIBE
Abstract:
Verfahren zum beidseitigen Polieren einer Halbleiterscheibe, wobei auf oberem und unterem Polierteller Poliertücher einer Härte bei Raumtemperatur von mindestens 80° nach Shore A und mit einer Kompressibilität bei Raumtemperatur von weniger als 3 % befestigt werden, wobei eine Halbleiterscheibe zwischen oberem und unterem Poliertuch beidseitig poliert wird, und wobei zum Befestigen der Poliertücher auf oberem und unterem Polierteller die Poliertücher auf oberes und unteres Polierteller geklebt werden, zwischen den beiden aufgeklebten Poliertüchern als Zwischenlage ein Tuch mit einer Kompressibilität bei Raumtemperatur von mindestens 3 % positioniert wird und anschließend die beiden Poliertücher mit dem zwischen ihnen befindlichen Tuch für einen bestimmten Zeitraum aneinander gepresst werden.