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1. (WO2018058158) SPUTTERING TARGET
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Veröff.-Nr.: WO/2018/058158 Internationale Anmeldenummer PCT/AT2017/000062
Veröffentlichungsdatum: 05.04.2018 Internationales Anmeldedatum: 08.09.2017
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,C23C 14/14 (2006.01) ,B22F 3/15 (2006.01) ,C22C 1/04 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
22
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
34
durch Aufstäuben
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
14
Beschichten durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben oder durch Ionenimplantation des Beschichtungsmaterials
06
gekennzeichnet durch das Beschichtungsmaterial
14
Metallische Stoffe, Bor oder Silicium
B Arbeitsverfahren; Transportieren
22
Gießerei; Pulvermetallurgie
F
Verarbeiten von Metallpulver; Herstellen von Gegenständen aus Metallpulver; Gewinnung von Metallpulver; Apparate oder Vorrichtungen besonders ausgebildet für Metallpulver
3
Herstellen von Gegenständen oder Halbzeug aus Metallpulver in Bezug auf die Art des Verdichtens oder Sinterns; Apparate hierfür
12
durch Verdichten und Sintern
14
gleichzeitig
15
Isostatisches Heißpressen
C Chemie; Hüttenwesen
22
Metallhüttenwesen; Eisen- oder Nichteisenlegierungen; Behandlung von Legierungen oder von Nichteisenmetallen
C
Legierungen
1
Herstellen von Nichteisen-Legierungen
04
auf pulvermetallurgischem Wege
Anmelder:
PLANSEE SE [AT/AT]; Metallwerk-Plansee-Straße 71 6600 Reutte, AT
Erfinder:
EIDENBERGER-SCHOBER, Michael; AT
WINKLER, Jörg; AT
O´SULLIVAN, Michael; AT
Prioritätsdaten:
GM 229/201629.09.2016AT
Titel (EN) SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE
(DE) SPUTTERING TARGET
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a sputtering target which contains molybdenum and at least one metal of the group (tantalum, niobium), wherein the average content of the metal of the group (tantalum, niobium) is 5 to 15 at.% and the molybdenum content is ≥ 80 at.%. The sputtering target has at least one matrix with an average molybdenum content which is more than or equal to 92 at.% and particles which are embedded into the matrix and which are made of a mixed crystal containing at least one metal of the group (tantalium, niobium) and molybdenum with an average molybdenum content which is more than or equal to 15 at.%. The invention additionally relates to a method for producing a sputtering target.
(FR) L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique comprenant du molybdène ainsi qu'au moins un métal du groupe (tantale, niobium), la teneur moyenne en métal du groupe (tantale, niobium), en pourcentage atomique (%at), étant de 5 à 15 % et la teneur en molybdène étant ≥ 80 %at. La cible de pulvérisation cathodique comprend au moins une matrice présentant une teneur moyenne en molybdène supérieure ou égale à 92 %at et dans laquelle sont incorporées des particules constituées d'un cristal mixte contenant au moins un métal du groupe (tantale, niobium) et du molybdène, la teneur moyenne en molybdène étant supérieure ou égale à 15 %at. L’invention concerne en outre un procédé de fabrication d'une cible de pulvérisation cathodique.
(DE) Die Erfindung betrifft ein Sputtering Target das Molybdän sowie zumindest ein Metall aus der Gruppe (Tantal, Niob) enthält, wobei der mittlere Gehalt des Metalls aus der Gruppe (Tantal, Niob) 5 bis 15 at% und der Molybdängehalt ≥ 80 at% betragen. Das Sputtering Target weist zumindest eine Matrix mit einem mittleren Molybdängehalt von größer gleich 92 at% und in der Matrix eingebettete Partikel aus einem Mischkristall enthaltend zumindest ein Metall aus der Gruppe (Tantal, Niob) und Molybdän, mit einem mittleren Molybdängehalt von größer gleich 15 at% auf. Weiter betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Sputtering Targets.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)