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1. (WO2018046350) OPTISCHES SYSTEM, INSBESONDERE LITHOGRAPHIEANLAGE, SOWIE VERFAHREN

Pub. No.:    WO/2018/046350    International Application No.:    PCT/EP2017/071630
Publication Date: Fri Mar 16 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed Aug 30 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/20
G02B 5/00
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: MARSOLLEK, Pascal
ZWEERING, Ralf
WITHALM, Martin
Title: OPTISCHES SYSTEM, INSBESONDERE LITHOGRAPHIEANLAGE, SOWIE VERFAHREN
Abstract:
Die vorliegende Erfindung schafft ein optisches System (200), insbesondere Lithographieanlage (100A, 100B), aufweisend einen Strahlengang (216), ein Blendenelement (218, 218-1, 218-2), welches dazu eingerichtet ist, einen Teil des Strahlengangs (216) abzudecken, eine Positioniereinrichtung (220), welche dazu eingerichtet ist, das Blendenelement (218, 218-1, 218-2) in Richtung (x, y, z, Rx, Ry, Rz) zumindest eines Freiheitsgrads zu positionieren, eine Sensoreinrichtung (224), welche dazu eingerichtet ist, eine Position des Blendenelements (218, 218- 1, 218-2) in Richtung (x, y, z, Rx, Ry, Rz) des zumindest einen Freiheitsgrads zu erfassen, und eine Steuereinrichtung (226), welche dazu eingerichtet ist, die Positioniereinrichtung (220) in Abhängigkeit von der erfassten Position des Blendenelements (218, 218-1, 218-2) zur Positionierung desselben in Richtung (x, y, z, Rx, Ry, Rz) des zumindest einen Freiheitsgrads anzusteuern.