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1. WO2018015155 - SENSOR-EINRICHTUNG

Veröffentlichungsnummer WO/2018/015155
Veröffentlichungsdatum 25.01.2018
Internationales Aktenzeichen PCT/EP2017/066785
Internationales Anmeldedatum 05.07.2017
IPC
G02B 26/08 2006.1
GSektion G Physik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
26Optische Vorrichtungen oder Anordnungen mit beweglichen oder verformbaren optischen Elementen zum Steuern der Intensität, Farbe, Phase, Polarisation oder Richtung von Licht, z.B. Schalten, Austasten oder Modulieren
08zum Steuern der Richtung von Licht
G02B 19/00 2006.1
GSektion G Physik
02Optik
BOptische Elemente, Systeme oder Geräte
19Kondensoren
G03F 7/20 2006.1
GSektion G Physik
03Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
FFotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken ; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20Belichten; Vorrichtungen dafür
CPC
G01D 5/24
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
5Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
12using electric or magnetic means
14influencing the magnitude of a current or voltage
24by varying capacitance
G02B 19/0023
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
19Condensers, ; e.g. light collectors or similar non-imaging optics
0004characterised by the optical means employed
0019having reflective surfaces only (e.g. louvre systems, systems with multiple planar reflectors)
0023at least one surface having optical power
G02B 19/0047
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
19Condensers, ; e.g. light collectors or similar non-imaging optics
0033characterised by the use
0047for use with a light source
G02B 26/0833
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
26Optical devices or arrangements using movable or deformable optical elements for controlling the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light, e.g. switching, gating, modulating
08for controlling the direction of light
0816by means of one or more reflecting elements
0833the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
G02B 26/101
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
26Optical devices or arrangements using movable or deformable optical elements for controlling the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light, e.g. switching, gating, modulating
08for controlling the direction of light
10Scanning systems
101with both horizontal and vertical deflecting means, e.g. raster or XY scanners
G03F 7/70075
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane, by using an integrator, e.g. fly's eye lenses, facet mirrors, glass rods, by using a diffusive optical element or by beam deflection
Anmelder
  • CARL ZEISS SMT GMBH [DE]/[DE]
Erfinder
  • AMELING, Ralf
  • HAUF, Markus
Vertreter
  • RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB
Prioritätsdaten
10 2016 213 026.918.07.2016DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (de)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) SENSOR-EINRICHTUNG
(EN) SENSOR DEVICE
(FR) SYSTÈME CAPTEUR
Zusammenfassung
(DE) Bei einer Sensor-Einrichtung zur Erfassung der Verlagerungsposition eines optischen Bauelements (20) mit einer Mehrzahl von Stator-Elektroden (44i) sind Mittel zur Eingrenzung des für die Messung der Verlagerungsposition relevanten elektrischen Feldes auf den Bereich der Statorelektroden vorgesehen.
(EN) The invention relates to a sensor device for detecting the displacement position of an optical component (20), comprising a plurality of stator electrodes (44i), wherein means are provided for limiting the electric field relevant for the measurement of the displacement position on the region of the stator electrodes.
(FR) L'invention concerne un système capteur destiné à acquérir la position de déplacement d'un composant optique (20), lequel système comprend une pluralité d’électrodes de stator (44i). Selon l’invention, des moyens sont destinés à limiter le champ électrique essentiel à la mesure de la position de déplacement à la zone des électrodes de stator.
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