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1. (WO2017216144) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR GA-RÜCKGEWINNUNG
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten    Einwendung einreichen

Veröff.-Nr.: WO/2017/216144 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2017/064371
Veröffentlichungsdatum: 21.12.2017 Internationales Anmeldedatum: 13.06.2017
IPC:
C22B 58/00 (2006.01)
Anmelder: FREIBERGER COMPOUND MATERIALS GMBH[DE/DE]; Am Junger Löwe Schacht 5 09599 Freiberg, DE
HELMHOLTZ-ZENTRUM DRESDEN - ROSSENDORF E.V.[DE/DE]; Bautzner Landstr. 400 01328 Dresden, DE
TECHNISCHE UNIVERSITÄT BERGAKADEMIE FREIBERG[DE/DE]; Akademiestr. 6 09599 Freiberg, DE
Erfinder: REINHOLD, Thomas; DE
EICHLER, Stefan; DE
WEINERT, Berndt; DE
ZEIDLER, Oliver; DE
STELTER, Michael; DE
Vertreter: PRÜFER & PARTNER MBB PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE NR. 321; Sohnckestr. 12 81479 München, DE
Prioritätsdaten:
10 2016 210 451.913.06.2016DE
Titel (EN) METHOD AND APPARATUS FOR GA RECOVERY
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE RÉCUPÉRATION DE GALLIUM
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR GA-RÜCKGEWINNUNG
Zusammenfassung: front page image
(EN) The present invention encompasses a method of selectively separating Ga from wastewaters with the aid of a dialysis method. This exploits the particular complexation behaviour of Ga, which forms an unstable tetrahalo complex. This forms only in the case of a sufficiently high halide concentration. Since the halide concentration becomes lower across the membrane, the Ga-tetrahalo complex breaks down in the membrane, as a result of which the Ga is retained. Other metals such as In and Fe do not show this behaviour, and therefore the tetrahalo complexes of these metals can pass through the membrane and hence can be selectively separated off.
(FR) L'invention concerne un procédé de séparation sélective de gallium présent dans de l’eau usée de gravure au moyen d’un procédé de dialyse. L’invention utilise l’action spécifique d’agent complexant du gallium, qui forme un complexe tétrahalogéné instable. Ce complexe ne se forme qu’en présence d’une concentration suffisamment élevée en halogénures. Étant donné que la concentration en halogénures est réduite par la membrane, le complexe tétrahalogéné de gallium se précipite dans la membrane, de sorte que le gallium est retenu. D’autres métaux, par exemple l’indium et le fer, ne présentent pas ce comportement, de sorte que les complexes tétrahalogénés de ces métaux peuvent traverser la membrane et être ainsi séparés sélectivement.
(DE) Die vorliegende Erfindung umfasst ein Verfahren zur selektiven Abtrennung von Ga aus Ätzabwässern mit Hilfe eines Dialyseverfahrens. Hierbei wird das besondere Komplexbildungsverhaltens des Ga ausgenutzt, welches einen instabilen Tetrahalogenokomplex bildet. Dieser bildet sich nur bei ausreichend hoher Halogenidkonzentration. Da die Halogenidkonzentration über die Membran niedriger wird, zerfällt der Ga-Tetrahalogenidokomplex in der Membran, wodurch das Ga zurückgehalten wird. Andere Metalle wie In und Fe zeigen dieses Verhalten nicht, weswegen die Tetrahalogenokomplexe dieser Metalle die Membran passieren können und somit selektiv abgetrennt werden können.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)