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1. (WO2017216065) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM SEQUENTIELLEN ABSCHEIDEN EINER VIELZAHL VON SCHICHTEN AUF SUBSTRATEN, SOWIE AUFNAHMEEINHEIT ZUR VERWENDUNG IN EINER ABSCHEIDUNGSVORRICHTUNG
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Veröff.-Nr.: WO/2017/216065 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2017/064144
Veröffentlichungsdatum: 21.12.2017 Internationales Anmeldedatum: 09.06.2017
IPC:
C23C 16/455 (2006.01) ,H01L 21/677 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
23
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
C
Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16
Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase [chemical vapour deposition = CVD]
44
gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
455
gekennzeichnet durch das Verfahren zum Einführen von Gasen in den Reaktionsraum oder zum Modifizieren von Gasströmungen im Reaktionsraum
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
67
Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Halbleiterbauelementen oder elektrischen Festkörperbauelementen während ihrer Herstellung oder Behandlung; Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Wafern während der Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen, elektrischen Festkörperbauelementen oder einzelnen Schaltungselementen
677
zum Transportieren oder Fördern, z.B. zwischen verschiedenen Bearbeitungsstationen
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
L
Halbleiterbauelemente; elektrische Festkörperbauelemente, soweit nicht anderweitig vorgesehen
21
Verfahren oder Geräte, besonders ausgebildet für die Herstellung oder Behandlung von Halbleiter- oder Festkörperbauelementen oder Teilen davon
67
Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Halbleiterbauelementen oder elektrischen Festkörperbauelementen während ihrer Herstellung oder Behandlung; Vorrichtungen, besonders ausgebildet zur Handhabung von Wafern während der Herstellung oder Behandlung von Halbleiterbauelementen, elektrischen Festkörperbauelementen oder einzelnen Schaltungselementen
Anmelder:
AIXTRON SE [DE/DE]; Dornkaulstraße 2 52134 Herzogenrath, DE
CENTROTHERM INTERNATIONAL AG [DE/DE]; Württemberger Straße 31 89143 Blaubeuren, DE
Erfinder:
HEUKEN, Michael; DE
LERCH, Wilfried; DE
Vertreter:
GRUNDMANN, Dirk; DE
MÜLLER, Enno; DE
RIEDER, Hans-Joachim; DE
BRÖTZ, Helmut; DE
BOURREE, Hendrik; DE
Prioritätsdaten:
10 2016 110 788.313.06.2016DE
Titel (EN) DEVICE AND METHOD FOR SEQUENTIALLY DEPOSITING A MULTIPLICITY OF LAYERS ON SUBSTRATES, AND RECEIVING UNIT FOR USE IN A DEPOSITING DEVICE
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT SÉQUENTIEL D'UNE PLURALITÉ DE COUCHES SUR DES SUBSTRATS ET UNITÉ DE RÉCEPTION S'UTILISANT DANS UN DISPOSITIF DE DÉPÔT
(DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM SEQUENTIELLEN ABSCHEIDEN EINER VIELZAHL VON SCHICHTEN AUF SUBSTRATEN, SOWIE AUFNAHMEEINHEIT ZUR VERWENDUNG IN EINER ABSCHEIDUNGSVORRICHTUNG
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a device and a method for depositing a multiplicity of layers on substrates (13), in particular for producing multi-junction solar cells or other optoelectronic components on silicon substrates, comprising a multiplicity of deposition modules (1), which are arranged one behind the other in a through-running direction (T) and within a gastight housing (5) and which has at least one gas inlet member (8) for introducing a process gas into a process chamber (27) and a suction extraction device (9) for sucking out the process gas and a heating device (10) for heating up the substrate (13), comprising a transporting device (11) for transporting transport modules (12), each carrying one or more substrates, in the transporting direction (T) through the process modules (1), wherein at least each of the deposition modules has a loading portal (2) that can be closed in a pressuretight manner and an unloading portal (3) that can be closed in a pressuretight manner, for transporting the transport modules (12) through, wherein a transporting channel (28) for transporting the transport modules (12) through is provided at least between the unloading portal (3) of some deposition modules and the loading portal (2) of a respectively neighbouring deposition module. Means (25, 26) for creating a gas curtain (4) directed transversely in relation to the transporting direction (T) is provided in the transporting channel (28). The transport module (12) is formed as a tablet and has a number of substrate carriers (21), wherein each individual substrate carrier (21) is individually assigned spatially and functionally a gas inlet member (8) and suction extraction openings (18).
(FR) L'invention concerne un dispositif et un procédé permettant de déposer une pluralité de couches sur des substrats (13), en particulier pour produire des cellules solaires multijonctions ou d'autres composants optoélectroniques sur des substrats en silicium, ledit dispositif comportant une pluralité de modules de dépôt (1) disposés les uns derrière les autres dans une direction de passage (T) et à l'intérieur d'un boîtier (5) étanche aux gaz, lesdits modules de dépôt présentant au moins un élément d'entrée de gaz (8) pour introduire un gaz de procédé dans une chambre de traitement (27) et un dispositif d'aspiration (9) pour aspirer le gaz de procédé ainsi qu'un dispositif de chauffage (10) pour chauffer le substrat (13), le dispositif présentant également un dispositif de transport (11) pour transporter des modules de transport (12) portant chacun un ou plusieurs substrats dans le sens de transport (T) à travers les modules de traitement (1), au moins chacun des modules de dépôt présentant un portique de chargement (2) pouvant être fermé de manière étanche à la pression et un portique de déchargement (3) pouvant être fermé de manière étanche à la pression, pour permettre le passage du module de transport (12), un canal de transport (28) pour permettre le passage du module de transport (12) se situant au moins entre le portique de déchargement (3) de quelques modules de dépôt et le portique de chargement (2) d'un module de dépôt respectivement adjacent. Des moyens (25, 26) pour produire un rideau gazeux (4) orienté transversalement au sens de transport (T) sont situés dans le canal de transport (28). Le module de transport (12) se présente sous forme de tablette et comporte plusieurs supports de substrat (21), un élément d'entrée de gaz (8) et des ouvertures d'aspiration étant associés à chaque support de substrat (21) individuel.
(DE) Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Abscheiden einer Vielzahl von Schichten auf Substraten (13), insbesondere zur Herstellung von Multi-Junction-Solarzellen oder anderen optoelektronischen Bauelementen auf Siliziumsubstraten, mit einer Vielzahl von in einer Durchlaufrichtung (T) hintereinander und innerhalb eines gasdichten Gehäuses (5) angeordneten Depositionsmodulen (1), die zumindest ein Gaseinlassorgan (8) zum Einleiten eines Prozessgases in eine Prozesskammer (27) und eine Absaugeinrichtung (9) zum Absaugen des Prozessgases und eine Heizeinrichtung (10) zum Aufheizen des Substrates (13) aufweisen, mit einer Transporteinrichtung (11) zum Transport von je ein oder mehrere Substrate tragenden Transportmodulen (12) in der Transportrichtung (T) durch die Prozessmodule (1), wobei zumindest jedes der Depositionsmodule ein druckdicht verschließbares Beladeportal (2) und ein druckdicht verschließbares Entladeportal (3) aufweist, zum Hindurchtransportieren des Transportmoduls (12), wobei zumindest zwischen dem Entladeportal (3) einiger Depositionsmodule und dem Beladeportal (2) eines jeweils benachbarten Depositionsmoduls ein Transportkanal (28) zum Hindurchtransport des Transportmoduls (12)vorgesehen ist. Im Transportkanal (28) sind Mittel (25, 26) zur Erzeugung eines quer zur Transportrichtung (T) gerichteten Gasvorhang (4) vorgesehen. Das Transportmodul (12) ist als Tablett ausgebildet und weist mehrere Substratträger (21) auf, wobei jedem einzelnen Substratträger (21) individuell örtlich und funktionell ein Gaseinlassorgan (8) und Absaugöffnungen (18) zugeordnet sind.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)