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1. WO2017194059 - GASINJEKTOR FÜR REAKTIONSBEREICHE

Veröffentlichungsnummer WO/2017/194059
Veröffentlichungsdatum 16.11.2017
Internationales Aktenzeichen PCT/DE2017/100403
Internationales Anmeldedatum 12.05.2017
IPC
C23C 16/455 2006.01
CChemie; Hüttenwesen
23Beschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Chemische Oberflächenbehandlung; Diffusionsbehandlung von metallischen Werkstoffen; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, Aufstäuben, Ionenimplantation oder chemisches Abscheiden aus der Dampfphase; Inhibieren von Korrosion metallischer Werkstoffe oder von Verkrustung allgemein
CBeschichten metallischer Werkstoffe; Beschichten von Werkstoffen mit metallischen Stoffen; Oberflächenbehandlung metallischer Werkstoffe durch Diffusion in die Oberfläche, durch chemische Umwandlung oder Substitution; Beschichten allgemein durch Vakuumbedampfen, durch Aufstäuben, durch Ionenimplantation oder durch chemisches Abscheiden aus der Dampfphase
16Chemisches Beschichten durch Zersetzen gasförmiger Verbindungen ohne Verbleiben von Reaktionsprodukten des Oberflächenmaterials im Überzug, d.h. Verfahren zur chemischen Abscheidung aus der Dampfphase
44gekennzeichnet durch das Beschichtungsverfahren
455gekennzeichnet durch das Verfahren zum Einführen von Gasen in den Reaktionsraum oder zum Modifizieren von Gasströmungen im Reaktionsraum
CPC
C23C 16/4557
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
455characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
45563Gas nozzles
4557Heated nozzles
C23C 16/45574
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
455characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
45563Gas nozzles
45574Nozzles for more than one gas
C23C 16/45578
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
455characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
45563Gas nozzles
45578Elongated nozzles, tubes with holes
C23C 16/4558
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
455characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
45563Gas nozzles
4558Perforated rings
H01J 37/075
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
06Electron sources; Electron guns
075Electron guns using thermionic emission from cathodes heated by particle bombardment or by irradiation, e.g. by laser
H01J 37/32449
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
3244Gas supply means
32449Gas control, e.g. control of the gas flow
Anmelder
  • WEGE, Stephan [DE]/[DE]
Erfinder
  • WEGE, Stephan
Vertreter
  • PATENTANWÄLTE WEISSE, MOLTMANN & WILLEMS
Prioritätsdaten
10 2016 108 845.512.05.2016DE
Veröffentlichungssprache Deutsch (DE)
Anmeldesprache Deutsch (DE)
Designierte Staaten
Titel
(DE) GASINJEKTOR FÜR REAKTIONSBEREICHE
(EN) GAS INJECTOR FOR REACTION REGIONS
(FR) INJECTEUR DE GAZ POUR ZONES DE RÉACTION
Zusammenfassung
(DE)
Die Erfindung betrifft einen Gasinjektor (10) zum Zuführen von Gas oder eines Gasgemisches in einen Reaktionsbereich (16). Der Gasinjektor (10) enthält einen Grundkörper (12) mit einem Gaskanal (14). Weiterhin ist eine Gaszuführung (30) für den Gaskanal (14) vorgesehen. Über eine erste Öffnung (26) oder einen ersten Gruppenverbund (54) von Öffnungen (26) in dem Grundkörper gelangt das Gas oder Gasgemisch aus dem Gaskanal (14) in den Reaktionsbereich (16). Im Grundkörper (12) ist eine zweite Öffnung (27) oder ein zweiter Gruppenverbund (56) von Öffnungen (27) vorgesehen, über welche das Gas oder Gasgemisch ebenfalls aus dem Gaskanal (14) in den Reaktionsbereich (16) gelangt. Dabei ist den Öffnungen (26, 27) oder den Gruppenverbünden (54, 56) von Öffnungen (26, 27) jeweils eine separate Gaszuführung (30, 40) im Grundkörper (12) am Gaskanal (14) zugeordnet.
(EN)
The invention relates to a gas injector (10) for supplying gas or a gas mixture to a reaction region (16). The gas injector (10) contains a main part (12) with a gas channel (14). Furthermore, a gas feed (30) is provided for the gas channels (14). The gas or the gas mixture reaches the reaction region (16) from the gas channel (14) via a first opening (26) or a first group (54) of openings (26) in the main part. The main part (12) is equipped with a second opening (27) or a second group (56) of openings (27) via which the gas of the gas mixture likewise reaches the reaction region (16) from the gas channel (14). Each of the openings (26, 27) or the groups (54, 56) of openings (26, 27) is paired with a respective separate gas feed (30, 40) in the main part (12) on the gas channel (14).
(FR)
La présente invention concerne un injecteur de gaz (10) pour alimenter en gaz ou en mélange gazeux une zone de réaction (16). L'injecteur de gaz (10) contient un corps principal (12) muni d'un passage de gaz (14). Une conduite de gaz (30) est en outre prévue pour le passage de gaz (14). Par une première ouverture (26) ou un premier ensemble groupé (54) d’ouvertures (26) dans le corps principal, le gaz ou mélange gazeux sortant du passage de gaz (14) arrive dans la zone de réaction (16). Dans le corps principal (12), une seconde ouverture (27) ou un second ensemble groupé (56) d'ouvertures (27) sont prévus, par lesquels le gaz ou le mélange gazeux arrive également dans la zone de réaction (16) en sortant du passage de gaz (14). À cet effet, une conduite de gaz distincte (30, 40) dans le corps principal (12) sur le passage de gaz (14) est associée aux ouvertures (26, 27) ou aux ensembles groupés (54, 56) d'ouvertures (26, 27).
Auch veröffentlicht als
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