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1. (WO2017025376) OPTISCHES SYSTEM
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Veröff.-Nr.: WO/2017/025376 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2016/068363
Veröffentlichungsdatum: 16.02.2017 Internationales Anmeldedatum: 02.08.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
PATRA, Michael; DE
Vertreter:
RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg, DE
Prioritätsdaten:
10 2015 215 216.210.08.2015DE
Titel (EN) OPTICAL SYSTEM
(FR) SYSTÈME OPTIQUE
(DE) OPTISCHES SYSTEM
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to an optical system for a projection lithography system (1) for microlithography, comprising a first subsystem that is arranged before a scanner (32i) in a beam direction and that provides an illumination beam (3), said subsystem being adapted to a fold geometry of the scanner (32i) such that the optical system has a total diattenuation value of, at most, 20%.
(FR) L'invention concerne un système optique pour un système d’éclairage de projection (1) destiné à la microlithographie. Ledit système optique comprend un premier sous-système, disposé dans la direction de rayonnement devant un scanner (32i), pour fournir un rayonnement d’éclairage (3), le sous-système étant adapté à une géométrie de convolution du scanner (32i) de sorte que le système optique présente une désatténuation totale qui est au maximum de 20 %.
(DE) Ein optisches System für ein Projektionsbelichtungssystem (1) für die Mikrolithographie umfasst ein in Strahlungsrichtung vor einem Scanner (32i) angeordnetes erstes Teilsystem zum Verfügungstellen von Beleuchtungsstrahlung (3), wobei das Teilsystem derart an eine Faltungsgeometrie des Scanners (32i) angepasst ist, dass das optische System eine Gesamtdiattenuation aufweist, welche höchstens 20% beträgt.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)