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1. (WO2017009410) LASERABLATIERBARER MASKENFILM
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2017/009410 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2016/066728
Veröffentlichungsdatum: 19.01.2017 Internationales Anmeldedatum: 14.07.2016
IPC:
G03F 1/68 (2012.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
1
Kopiervorlagen für die fotomechanische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Masken, Fotomasken oder Zielmarken; zugehörige Maskenrohlinge oder Pellicles; besonders hierfür ausgebildete Behälter; Herstellung derselben
68
Herstellungsprozesse, die nicht durch die Gruppen G03F1/20-G03F1/50101
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
Anmelder:
FLINT GROUP GERMANY GMBH [DE/DE]; Sieglestr. 25 70469 Stuttgart, DE
Erfinder:
MÜHLFEIT, Markus; DE
LEINENBACH, Alfred; DE
UNGLAUBE, Jochen; DE
Vertreter:
SCHUCK, Alexander; DE
Prioritätsdaten:
15176893.415.07.2015EP
Titel (EN) LASER-ABLATABLE MASK FILM
(FR) FILM DE MASQUAGE POUVANT ÊTRE RETIRÉ PAR ABLATION LASER
(DE) LASERABLATIERBARER MASKENFILM
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a laser-ablatable mask film for the exposure of relief printing plates and screen printing stencils comprising at least (i) a dimensionally stable carrier film, (ii) a UV-transparent adhesive layer and (iii) a laser-ablatable mask layer, characterized in that the laser-ablatable mask layer (iii) contains a) a binder containing a crosslinked polyvinyl alcohol, b) a material which absorbs UV/VIS and IR light, and c) optionally an inorganic filler.
(FR) L'invention concerne un film de masquage pouvant être retiré par ablation laser pour l'exposition de plaques d'impression en relief et de pochoirs de sérigraphie, comportant (i) une pellicule support à dimensions stables, (ii) une couche adhésive transparente aux UV et (iii) une couche de masquage pouvant être retirée par ablation laser, caractérisé en ce que la couche de masquage pouvant être retirée par ablation laser (iii) contient a) un liant renfermant un polyvinylalcool réticulé, b) un matériau absorbant la lumière UV/VIS et IR et c) éventuellement une charge inorganique.
(DE) Die Erfindung betrifft einen laserablatierbaren Maskenfilm für die Belichtung von Reliefdruckplatten und Siebdruckschablonen umfassend mindestens (i) eine dimensionsstabile Trägerfolie, (ii) eine UV-transparente Haftschicht und (iii) eine laserablatierbare Maskenschicht, dadurch gekennzeichnet, dass die laserablatierbare Maskenschicht (iii) a)ein Bindemittel enthaltend einen vernetzten Polyvinylalkohol, b)ein UV/VIS-und IR-Licht absorbierendes Material und c)optional einen anorganischen Füllstoff enthält.
Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)