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1. (WO2017005849) LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER LITHOGRAPHIEANLAGE

Pub. No.:    WO/2017/005849    International Application No.:    PCT/EP2016/066105
Publication Date: Fri Jan 13 00:59:59 CET 2017 International Filing Date: Fri Jul 08 01:59:59 CEST 2016
IPC: G03F 7/20
G02B 26/08
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: DINGER, Udo
HOLZ, Markus
BIHR, Ulrich
Title: LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINER LITHOGRAPHIEANLAGE
Abstract:
Es wird eine Lithographieanlage(100) mit einer Strahlungsquelle (106A) zur Erzeugung einer Strahlung mit einer bestimmten Repetitionsfrequenz (f1),einem optischen Bauteil (200) zur Führung der Strahlung in der Lithographieanlage (100),einer Aktuator-Einrichtung (210) zur Verlagerung des optischen Bauteils (200) undeiner Mess-Einrichtung (230) vorgeschlagen. Dabei ist die Mess-Einrichtung (230) zum Ermitteln einer Position des optischen Bauteils (200) mittels eines Messsignals (S2) mit einer bestimmten Messsignalfrequenz (f2) eingerichtet, wobei die Messsignalfrequenz (f2) ungleich der Repetitionsfrequenz (f1) und ungleich ganzzahligen Vielfachen der Repetitionsfrequenz (f1) ist. Dadurch ist die Mess-Einrichtung gegenüber Strompulsen desensibilisiert, welche aufgrund der verwendeten Wellenlängen, zum Beispiel 0,1nm bis 30 nm, der Strahlungsquelle durch aus der Oberfläche des optischen Bauteils oder einem Plasma in der Lithographieanlage ausgelösten Ladungsträgern erzeugt werden. Fernerwird ein Verfahren zum Betreiben einer Lithographieanlage bereitgestellt.