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1. (WO2017005709) ABBILDENDE OPTIK ZUR ABBILDUNG EINES OBJEKTFELDES IN EIN BILDFELD SOWIE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINER DERARTIGEN ABBILDENDEN OPTIK
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Veröff.-Nr.: WO/2017/005709 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2016/065751
Veröffentlichungsdatum: 12.01.2017 Internationales Anmeldedatum: 05.07.2016
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 17/06 (2006.01)
G Physik
03
Fotografie; Kinematografie; vergleichbare Techniken unter Verwendung von nicht optischen Wellen; Elektrografie; Holografie
F
Fotomechanische Herstellung strukturierter oder gemusterter Oberflächen, z.B. zum Drucken, zum Herstellen von Halbleiterbauelementen; Materialien dafür; Kopiervorlagen dafür; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
7
Fotomechanische, z.B. fotolithografische Herstellung von strukturierten oder gemusterten Oberflächen, z.B. Druckflächen; Materialien dafür, z.B. mit Fotolacken [Resists]; Vorrichtungen besonders ausgebildet dafür
20
Belichten; Vorrichtungen dafür
G Physik
02
Optik
B
Optische Elemente, Systeme oder Geräte
17
Systeme mit reflektierenden Flächen, mit oder ohne brechende Elemente
02
Planflächen-Systeme, z.B. Bildaufrichtungs- und -umkehrsysteme
06
nur mit Spiegeln
Anmelder:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Erfinder:
SCHWAB, Markus; DE
Vertreter:
RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg, DE
Prioritätsdaten:
10 2015 212 619.606.07.2015DE
Titel (EN) IMAGING OPTIC FOR IMAGING AN OBJECT FIELD IN AN IMAGE FIELD, AS WELL AS PROJECTION ILLUMINATION SYSTEM HAVING AN IMAGING OPTIC OF THIS TYPE
(FR) OPTIQUE DE REPRÉSENTATION POUR REPRÉSENTER UN CHAMP D'OBJET DANS UN CHAMP D'IMAGE ET SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE PAR PROJECTION POURVU D'UNE OPTIQUE DE REPRÉSENTATION DE CE TYPE
(DE) ABBILDENDE OPTIK ZUR ABBILDUNG EINES OBJEKTFELDES IN EIN BILDFELD SOWIE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINER DERARTIGEN ABBILDENDEN OPTIK
Zusammenfassung:
(EN) An imaging optic for projection lithography has a plurality of imaging optical components. An object field (4) has an edge contour. In a transverse direction to an object scanning direction (y), this edge contour has a leading object-field edge contour section (4IN) and a following object edge contour section (4ουτ). Correspondingly, the image field (8) also has a leading image-field edge contour section (8IN) and a following image-field edge contour section (8ουτ). In a first variation, an object-field edge contour radius (RIN 4) is finite and a ratio (RIN 4/RIN 8) of the object-field edge contour radius (RIN 4) and the image-field edge contour radius (RIN 8) deviates from an imaging standard (ß) by more than 10%. In a further variation, the object-field edge contour radius (RIN 4) is infinite and the image-filed edge contour radius (RIN 8) is finite. As a result, an imaging optic having improved imaging quality is produced.
(FR) L'invention concerne une optique de représentation pour la lithographie par projection, comportant une pluralité de composants optiques de représentation. Un champ d'objet (4) a un contour de bord. Celui-ci présente, transversalement à une direction de balayage d'objet (y), une partie de contour de bord avant (4IN) de champ d'objet et une partie de contour de bord arrière (4OUT) de champ d'objet. De manière correspondante, le champ d'image (8) a également une partie de contour de bord avant (8IN) de champ d'image et une partie de contour de bord arrière (8OUT) de champ d'image. Dans une première variante, un rayon de contour de bord (RIN 4) de champ d'objet est fini et un rapport (RIN 4/RIN 8) du rayon de contour de bord (RIN 4) de champ d'objet sur le rayon de contour de bord (RIN 8) de champ d'image diverge de plus de 10 % d'une échelle de représentation. Dans une deuxième variante, le rayon de contour de bord (RIN 4) de champ d'objet est infini et le rayon de contour de bord (RIN 8) de champ d'image est fini. On obtient ainsi une optique de représentation présentant une qualité de représentation améliorée.
(DE) Eine abbildende Optik für die Projektionslithographie hat eine Mehrzahl abbildender optischer Komponenten. Ein Objektfeld (4) hat eine Randkontur. Diese hat quer zu einer Objekt Scanrichtung (y) einen führenden Objektfeld-Randkonturabschnitt (4IN) und einen folgenden Objekt-Randkonturabschnitt (4ουτ). Entsprechend hat auch das Bildfeld (8) einen führenden Bildfeld-Randkonturabschnitt (8IN) und einen folgenden Bildfeld-Randkonturabschnitt (8ουτ). Bei einer ersten Variante ist ein Objektfeld-Randkonturradius (RIN4) endlich und ein Verhältnis (RIN4/RIN8) aus dem Objektfeld-Randkonturradius (RIN4) und dem Bildfeld-Randkonturradius (RIN8) weicht von einem Abbildungsmaßstab (ß) um mehr als 10 % ab. Bei einer weiteren Variante ist der Objektfeld-Randkonturradius (RIN4) unendlich und der Bildfeld-Randkonturradius (RIN8) endlich. Es resultiert eine abbildende Optik mit verbesserter Abbildungsqualität.
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Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)