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1. (WO2017005253) VORRICHTUNG ZUR PAARWEISEN AUFNAHME VON SUBSTRATEN
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2017/005253 Internationale Anmeldenummer PCT/DE2016/100304
Veröffentlichungsdatum: 12.01.2017 Internationales Anmeldedatum: 08.07.2016
IPC:
C23C 16/50 (2006.01) ,C23C 16/458 (2006.01) ,H01L 31/18 (2006.01) ,H01L 21/673 (2006.01) ,H01J 37/32 (2006.01)
[IPC code unknown for C23C 16/50][IPC code unknown for C23C 16/458][IPC code unknown for H01L 31/18][IPC code unknown for H01L 21/673][IPC code unknown for H01J 37/32]
Anmelder:
HANWHA Q CELLS GMBH [DE/DE]; Sonnenallee 17 - 21 06766 Bitterfeld-Wolfen OT Thalheim, DE
Erfinder:
DUNCKER, Klaus; DE
Vertreter:
KRATZ, ROBERT; Kanzlei Patentanwälte Dr. Langfinger & Partner Partnerschaft mbB In der Halde 24 67480 Edenkoben, DE
Prioritätsdaten:
10 2015 111 144.609.07.2015DE
Titel (EN) DEVICE FOR RECEIVING SUBSTRATES IN PAIRS
(FR) DISPOSITIF DE LOGEMENT DE SUBSTRATS PAR PAIRES
(DE) VORRICHTUNG ZUR PAARWEISEN AUFNAHME VON SUBSTRATEN
Zusammenfassung:
(EN) The present invention relates to a device for receiving plate-shaped substrates (3) for treating them in a treatment appliance in the form of a plasma CVD appliance (PECVD), wherein each substrate has a front face and a rear face opposite the front face, comprising at least one receiving device (5, 5') for receiving and fixing the substrates (3, 3'), wherein the receiving device has at least two receiving areas (7), in particular a multiplicity of receiving areas (7), wherein at least two substrates (3, 3') are or can be arranged in each receiving area, wherein a rear face of a first substrate (3) is directly in contact with or can be brought directly into contact with a rear face of a second substrate (3'), and wherein at least two receiving areas (5) are arranged parallel, in particular almost parallel, to each other and are connected to each other by means of insulating connection elements (19), and wherein the parallel receiving areas (5) are connected or connectable in alternation to the outputs of different polarity of a high-frequency generator.
(FR) L'invention concerne un dispositif de logement de substrat en forme de plaque (3) pour leur traitement dans un dispositif de traitement sous la forme d'un système CVD assisté par plasma (PECVD), chaque substrat présentant une face avant et une face arrière opposée à la face avant. Le dispositif comprend au moins un dispositif de logement (5, 5') servant au logement et à la fixation des substrats (3, 3'), le dispositif de logement présente au moins deux, en particulier plus de deux, zones de logement (7), au moins deux substrats (3, 3') sont ou peuvent être agencés dans chaque zone de logement, une face avant d'un premier substrat (3) est ou peut être mise en appui direct sur une face arrière d'un second substrat (3'), au moins deux zones de logement (7) sont agencées, en particulier approximativement, parallèlement l'une à l'autre et raccordées l'une à l'autre au moyen d'éléments de raccordement isolants (19), et les zones de logement parallèles (5) sont ou peuvent être raccordées en alternance aux sorties de polarité différente d'un générateur haute fréquence.
(DE) Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Aufnahme von plattenförmigen Substraten (3) zur Behandlung derselben in einer Behandlungseinrichtung in Form einer Plasma-CVD-Anlage (PECVD), wobei jedes Substrat eine Vorderseite und eine der Vorderseite gegenüberliegenden Rückseite aufweist, umfassend mindestens eine Aufnahmevorrichtung (5, 5') zur Aufnahme und Fixierung der Substrate (3, 3'), wobei die Aufnahmevorrichtung mindestens zwei, insbesondere eine Vielzahl von, Aufnahmebereichen (7) aufweist, wobei in jedem Aufnahmebereich mindestens zwei Substrate (3, 3') angeordnet oder anordnenbar sind, wobei eine Rückseite eines ersten Substrats (3) direkt mit eine Rückseite eines zweiten Substrats (3') in Anlage bringbar ist oder steht, und wobei mindestens zwei Aufnahmebereiche (5), insbesondere nahezu, parallel zueinander angeordnet sind und mittels isolierenden Verbindungselementen (19) miteinander verbunden sind, und wobei die parallelen Aufnahmebereiche (5) alternierend mit den Ausgängen unterschiedlicher Polarität eines Hochfrequenzgenerators verbindbar oder verbunden sind.
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)