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1. (WO2017001576) VERFAHREN ZUM ABTASTEN EINES MIT EINEM PLASMAPROZESS IN BEZIEHUNG STEHENDEN SIGNALGEMISCHS
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2017/001576 Internationale Anmeldenummer PCT/EP2016/065335
Veröffentlichungsdatum: 05.01.2017 Internationales Anmeldedatum: 30.06.2016
IPC:
H01J 37/32 (2006.01) ,H03M 1/08 (2006.01)
H Elektrotechnik
01
Grundlegende elektrische Bauteile
J
Elektrische Entladungsröhren oder Entladungslampen
37
Entladungsröhren mit Vorkehrung zum Einführen von Gegenständen oder Werkstoffen, die der Entladung ausgesetzt werden sollen, z.B. zur Prüfung oder Bearbeitung derselben
32
Gasgefüllte Entladungsröhren
H Elektrotechnik
03
Grundlegende elektronische Schaltkreise
M
Codieren, Decodieren oder Codeumsetzung allgemein
1
Analog-Digital-Umsetzung; Digital-Analog-Umsetzung
06
Ununterbrochenes Kompensieren oder Verhindern von unerwünschten physikalischen Einflüssen
08
von Rauschen
Anmelder:
TRUMPF HÜTTINGER GMBH + CO. KG [DE/DE]; Bötzinger Strasse 80 79111 Freiburg, DE
Erfinder:
BOCK, Christian; DE
GREDE, André; CH
SCHWERG, Nikolai; CH
Vertreter:
TRUMPF PATENTABTEILUNG; Trumpf GmbH + Co KG Johann-Maus-Strasse 2 71254 Ditzingen Baden-Württemberg, DE
Prioritätsdaten:
10 2015 212 242.530.06.2015DE
Titel (EN) METHOD FOR SCANNING A COMPOSITE SIGNAL RELATING TO A PLASMA PROCESS
(FR) PROCÉDÉ D’ÉCHANTILLONNAGE D’UN MÉLANGE DE SIGNAUX QUI SE TROUVE EN RELATION AVEC UN PROCESSUS À PLASMA
(DE) VERFAHREN ZUM ABTASTEN EINES MIT EINEM PLASMAPROZESS IN BEZIEHUNG STEHENDEN SIGNALGEMISCHS
Zusammenfassung:
(EN) The invention relates to a method for scanning a composite signal relating to a plasma process, wherein the composite signal has at least one plasma signal (1-3) that is of interest and superimposed by at least one interfering signal (7, 7c, 20, 22, 23, 24), said method comprising the following method steps: a. identifying the at least one interfering signal (7, 7c, 20, 22, 23, 24); b. digitalising the composite signal, wherein the composite signal is scanned with a scanning frequency (fS); c. varying the scanning frequency (fS) during the operation of the plasma process according to the frequency of the plasma signal (1-3) of interest and/or the frequency of the at least one interfering signal (7, 7c, 20, 22, 23, 24).
(FR) L’invention concerne un procédé d’échantillonnage d’un mélange de signaux qui se trouve en relation avec un processus à plasma. Le mélange de signaux possède au moins un signal de plasma (1 – 3) intéressant auquel est superposé au moins un signal perturbateur (7, 7c, 20, 22, 23, 24). Le procédé selon l’invention comprend les étapes suivantes : a. identification dudit signal perturbateur (7, 7c, 20, 22, 23, 24) ; b. numérisation du mélange de signaux en échantillonnant le mélange de signaux avec une fréquence d’échantillonnage (fS) ; c. variation de la fréquence d’échantillonnage (fS) pendant le fonctionnement du processus à plasma en fonction de la fréquence du signal de plasma (1 – 3) intéressant et/ou de la fréquence dudit signal perturbateur (7, 7c, 20, 22, 23, 24).
(DE) Ein Verfahren zum Abtasten eines mit einem Plasmaprozess in Beziehung stehenden Signalgemischs, wobei das Signalgemisch mindestens ein von mindestens einem Störsignal (7, 7c, 20, 22, 23, 24) überlagertes interessierendes Plasmasignal (1 - 3) aufweist, umfasst die Verfahrensschritte: a. Identifizierung des zumindest einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24); b. Digitalisieren des Signalgemischs, indem das Signalgemisch mit einer Abtastfrequenz (fS) abgetastet wird; c. Variation der Abtastfrequenz (fS) während des Betriebs des Plasmaprozesses in Abhängigkeit der Frequenz des interessierenden Plasmasignals (1 - 3) und/oder der Frequenz des zumindest einen Störsignals (7, 7c, 20, 22, 23, 24).
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Deutsch (DE)
Anmeldesprache: Deutsch (DE)