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1. (WO2016192959) OPTISCHES SYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE

Pub. No.:    WO/2016/192959    International Application No.:    PCT/EP2016/060851
Publication Date: Fri Dec 09 00:59:59 CET 2016 International Filing Date: Sat May 14 01:59:59 CEST 2016
IPC: G03F 7/20
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
PATRA, Michael
Inventors: PATRA, Michael
Title: OPTISCHES SYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Projektionsbelichtungsanlage eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv aufweist, und wobei im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage in einem Nutzlichtschlauch (205, 305) befindliches Licht vom Eingang der Beleuchtungseinrichtung über die Objektebene des Projektionsobjektivs bis zur Bildebene des Projektionsobjektivs verläuft, mit wenigstens einer Lamellenanordnung (210, 310, 410, 420, 430, 440, 450, 510, 520, 610), welche wenigstens eine reflektierende Lamelle (211, 212, 311, 312, 511, 512, 611, 612) aufweist, und wenigstens einer Strahlfalle (250), wobei die Lamellenanordnung (210, 310, 410, 420, 430, 440, 450, 510, 520, 610) derart angeordnet ist, dass sie im Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage wenigstens zeitweise auf die Lamellenanordnung auftreffendes, nicht zum Nutzlichtschlauch (205, 305) gehörendes Licht zur Strahlfalle (250) hin reflektiert.