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1. (WO2016190081) FILM OF CYCLOOLEFIN-BASED RESIN COMPOSITION
Aktuellste beim Internationalen Büro vorliegende bibliographische Daten   

Veröff.-Nr.: WO/2016/190081 Internationale Anmeldenummer PCT/JP2016/063847
Veröffentlichungsdatum: 01.12.2016 Internationales Anmeldedatum: 10.05.2016
IPC:
C08L 45/00 (2006.01) ,C08L 53/02 (2006.01) ,C08L 65/00 (2006.01)
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
L
Massen auf Basis makromolekularer Verbindungen
45
Massen auf Basis von Homo- oder Mischpolymerisaten von Verbindungen, die keine ungesättigten aliphatischen Reste in einer Seitenkette aufweisen und die eine oder mehrere Kohlenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungen in einem carbocyclischen oder in einem heterocyclischen Ringsystem aufweisen; Massen auf Basis von Derivaten solcher Polymerisate
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
L
Massen auf Basis makromolekularer Verbindungen
53
Massen auf Basis von Blockmischpolymeren, die mindestens einen Block eines Polymerisats enthalten, das durch Reaktionen erhalten wird, an denen nur ungesättigte Kohlenstoff-Kohlenstoff- Bindungen beteiligt sind; Massen auf Basis solcher Blockmischpolymere
02
von vinylaromatischen Monomeren und konjugierten Dienen
C Chemie; Hüttenwesen
08
Organische makromolekulare Verbindungen; deren Herstellung oder chemische Verarbeitung; Massen auf deren Basis
L
Massen auf Basis makromolekularer Verbindungen
65
Massen auf Basis von makromolekularen Verbindungen, die durch Reaktionen erhalten werden, die eine Kohlenstoff-Kohlenstoff-Bindung in der Hauptkette bilden; Massen auf Basis von Derivaten solcher Polymere
Anmelder:
デクセリアルズ株式会社 DEXERIALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都品川区大崎1丁目11番2号 ゲートシティ大崎イーストタワー8階 Gate City Osaki, East Tower 8F, 1-11-2, Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1410032, JP
Erfinder:
細谷 健 HOSOYA, Ken; JP
堀井 明宏 HORII, Akihiro; JP
沼倉 新一 NUMAKURA, Shinichi; JP
高橋 康弘 TAKAHASHI, Yasuhiro; JP
佐竹 由貴 SATAKE, Yutaka; JP
小幡 慶 OBATA, Kei; JP
前川 欣之 MAEKAWA, Yoshiyuki; JP
石森 拓 ISHIMORI, Taku; JP
Vertreter:
野口 信博 NOGUCHI, Nobuhiro; JP
Prioritätsdaten:
2015-10860528.05.2015JP
2016-08984027.04.2016JP
Titel (EN) FILM OF CYCLOOLEFIN-BASED RESIN COMPOSITION
(FR) FILM DE COMPOSITION DE RÉSINE À BASE DE CYCLOOLÉFINE
(JA) 環状オレフィン系樹脂組成物フィルム
Zusammenfassung:
(EN) Provided is a film of a cycloolefin-based resin composition, the film having few defects. The film of a cycloolefin-based resin composition comprises a cycloolefin-based resin and an antioxidant, the antioxidant satisfying at least one of the following requirements (1) to (3). (1) To have a lithium ion content of 0.4 ppm or less. (2) To have a cation content of 0.9 ppm or less. (3) To have a chloride ion content of 0.1 ppm or less.
(FR) La présente invention concerne un film d'une composition de résine à base de cyclooléfine, ledit film ne présentant que peu de défauts. Ledit film d'une composition de résine à base de cyclooléfine comprend une résine à base de cyclooléfine et un antioxydant, ledit antioxydant satisfaisant à au moins une des exigences (1) à (3) suivantes. (1) Présenter une teneur en ions lithium inférieure ou égale à 0,4 ppm. (2) Présenter une teneur en cations inférieure ou égale à 0,9 ppm. (3) Présenter une teneur en ions chlorure inférieure ou égale à 0,1 ppm.
(JA) 欠陥が少ない環状オレフィン系樹脂組成物フィルムを提供する。 環状オレフィン系樹脂組成物フィルムは、環状オレフィン系樹脂と酸化防止剤とを含有し、上記酸化防止剤が以下の(1)~(3)の条件の少なくとも1つを満たす。 (1)上記酸化防止剤に含まれるリチウムイオンの含有量が0.4ppm以下である。 (2)上記酸化防止剤に含まれる陽イオンの含有量が0.9ppm以下である。 (3)上記酸化防止剤に含まれる塩化物イオンの含有量が0.1ppm以下である。
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Designierte Staaten: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasische Patentorganisation (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Europäisches Patentamt (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Veröffentlichungssprache: Japanisch (JA)
Anmeldesprache: Japanisch (JA)