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1. (WO2016150788) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR CHEMISCHEN BEHANDLUNG EINES HALBLEITER-SUBSTRATS

Pub. No.:    WO/2016/150788    International Application No.:    PCT/EP2016/055668
Publication Date: Fri Sep 30 01:59:59 CEST 2016 International Filing Date: Thu Mar 17 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 21/67
H01L 21/677
Applicants: RCT SOLUTIONS GMBH
Inventors: FATH, Peter
KELLER, Steffen
MELNYK, Ihor
Title: VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR CHEMISCHEN BEHANDLUNG EINES HALBLEITER-SUBSTRATS
Abstract:
Eine Vorrichtung (1) zur chemischen Behandlung eines Halbleiter-Substrats (2) weist eine Vorbehandlungseinrichtung (4) auf, die in einer Transportrichtung (3) des Halbleiter-Substrats (2) vor einer ersten Auftragseinrichtung (5) und einer zweiten Auftragseinrichtung (6) angeordnet ist. Die Vorbehandlungseinrichtung (4) dient zur Erzeugung eines umlaufenden Begrenzungsbereichs an dem Halbleiter-Substrat (2), sodass ein nachfolgendmittels der ersten Auftragseinrichtung (5) aufgebrachtes Schutzfluid (22) auf einer Substrat-Oberseite (23) eingegrenzt und gehalten wird. Hierdurch wird eine Verunreinigung eines Prozessfluids (28) durch das Schutzfluid (22) in der nachfolgenden zweiten Auftragseinrichtung (6) vermieden, wodurch die Vorrichtung (1) in einfacher Weise eine hohe Wirtschaftlichkeit aufweist.